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[实用新型]等离子体表面处理装置-CN201220125472.6有效
发明人：吴海英 -专利权人：雅视光学有限公司
申请日： 2012-03-29 - 公布日： 2012-11-07 - 主分类号： C23C16/50 文献下载
摘要：本实用新型提供一种等离子体表面处理装置，该装置包括箱体、与箱体连接的抽真空系统和反应气体室，该箱体内设有等离子源电极电板，该等离子源电极电板与高频高压电源连接。该等离子体表面处理步骤：将工件置于箱体内并密闭箱体；抽真空系统对箱体进行抽真空处理；从反应气体室向箱体内加入反应气体；高频高压电源输出高压电，使等离子源电极电板激发等离子体，令到反应气体被电离激发，轰击工件表面粒子而形成表面自由基采用本实用新型进行工件等离子体表面处理，所利用的条件和工作元素都是环保无害的，无有害废气废液排出，符合绿色环保的生产原则。
等离子体表面处理装置

[发明专利]一种轻质合金材料耦合等离子体表面处理装置及处理方法-CN201811366768.5在审
发明人：孙卓;刘素霞 -专利权人：苏州神龙航空科技有限公司
申请日： 2018-11-16 - 公布日： 2019-03-19 - 主分类号： C23C8/36 文献下载
摘要：本发明涉及材料的等离子体表面处理技术领域，具体的讲是一种轻质合金材料耦合等离子体表面处理装置及处理方法，包括真空腔体、真空获得及控制组件、气体流量控制模块、等离子体产生模块、等离子能量控制模块，衬底及温度控制模块，通过采用电感耦合式等离子体（ICP）与电容耦合式等离子体（CCP）的耦合的处理装置，在较低温度下（100‑480℃），在电源功率一定的情况下，通过施加磁场来增强等离子体密度，降低基体的自偏压，可提高表面处理速率，同时等离子体处理的表面均匀性和可控性较好。
等离子体表面处理装置轻质合金材料耦合等离子体等离子体表面处理技术等离子体产生等离子体处理气体流量控制温度控制模块表面均匀性等离子能量电感耦合式电容耦合式处理装置电源功率控制模块控制组件真空获得真空腔体可控性自偏压耦合的衬底磁场施加

[实用新型]一种轻质合金材料的耦合等离子体表面处理装置-CN201821896028.8有效
发明人：孙卓;刘素霞 -专利权人：苏州神龙航空科技有限公司
申请日： 2018-11-16 - 公布日： 2019-08-06 - 主分类号： C23C8/36 文献下载
摘要：本实用新型涉及材料的等离子体表面处理技术领域，具体的讲是一种轻质合金材料的耦合等离子体表面处理装置，包括真空腔体、真空获得及控制组件、气体流量控制模块、等离子体产生模块、等离子能量控制模块，衬底及温度控制模块，通过采用电感耦合式等离子体（ICP）与电容耦合式等离子体（CCP）的耦合的处理装置，在较低温度下（100‑480℃），在电源功率一定的情况下，通过施加磁场来增强等离子体密度，降低基体的自偏压，可提高表面处理速率，同时等离子体处理的表面均匀性和可控性较好。
等离子体表面处理装置轻质合金材料耦合等离子体等离子体表面处理技术等离子体产生等离子体处理气体流量控制温度控制模块本实用新型表面均匀性等离子能量电感耦合式电容耦合式处理装置电源功率控制模块控制组件真空获得真空腔体可控性自偏压耦合的衬底磁场施加

[发明专利]导电性粉末的等离子体表面处理装置-CN202180007026.7在审
发明人：柳承烈;崔镕燮;郑熔镐;石东篡;李康逸 -专利权人：韩国核融合能源研究院
申请日： 2021-01-22 - 公布日： 2022-07-22 - 主分类号： B01J19/08 文献下载
摘要：公开一种导电性粉末的等离子体表面处理装置。所述导电性粉末的等离子体表面处理装置，包括：反应室，其垂直截面呈漏斗形，具备下端的线性进气口和上端的排气口；以及等离子体射流发生装置，位于所述线性进气口的下方，并被构成为通过所述线性进气口将等离子体射流以从下至上方吐出至所述反应室中，在所述反应室内容纳粉末，通过所述等离子体射流悬浮而被等离子体处理。
导电性粉末等离子体表面处理装置

[实用新型]低温等离子体表面处理装置-CN201920808862.5有效
发明人：李昇勋;金度根 -专利权人：韩国机械研究院
申请日： 2019-05-30 - 公布日： 2020-02-21 - 主分类号： H01J37/317 文献下载
摘要：本实用新型涉及低温等离子体表面处理装置。更详细地，本实用新型涉及用于提高生物材料的生物相容性的低温等离子体表面处理装置。
低温等离子体表面处理装置

[发明专利]一种大气压等离子体刷装置-CN202210865050.0在审
发明人：王涛;王信;杨伟智;陈思乐;李蒙;时礼平 -专利权人：安徽工业大学芜湖技术创新研究院;安徽工业大学
申请日： 2022-07-21 - 公布日： 2022-11-11 - 主分类号： H05H1/26 文献下载
摘要：本发明公开了一种大气压等离子体刷装置，涉及大气压低温等离子体技术领域。本发明包括等离子体主体单元、过渡金属套环、金属电极片、刷毛组件；所述刷毛组件与所述过渡金属套环同轴连接，并与等离子体主体单元连接；等离子体主体单元由弹性绝缘聚合物材料制成，并可根据需求设置成不同数量与形状的阵列形式当接通高压电源并通入工作气体，产生等离子体射流，并经过刷毛前叉喷出；移动等离子体主体单元，可带动刷毛在物体表面运动，可同时实现对复杂物体表面的物理清洁与等离子体处理；结构简单，操作简便，可实现对物体表面的等离子体清理，又可以借助刷毛实现对物体表面的物理清洁，极大的增加了物体表面污染物或油污的清除速率与质量。
一种大气压等离子体装置

[发明专利]一种基于纤维载体的粉体材料等离子体表面改性方法-CN202310933404.5在审
发明人：范闻;陈越;聂修宇;徐祖顺 -专利权人：湖北大学
申请日： 2023-07-27 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： B01J19/08 文献下载
摘要：本发明提供了一种基于纤维载体的粉体材料等离子体表面改性方法，包括步骤：通过机械摩擦的方式将待处理的粉体材料均匀的沉积于纤维载体的表面，将表面沉积有粉体材料的纤维载体置于等离子体处理设备中，设定适当功率、处理时间和等离子体气氛，进行等离子体表面改性处理，得到改性后的粉体。本发明利用纤维载体表面丰富的三维纤维网络结构和巨大的表面积，能够有效的分散和捕获大量的粉体颗粒，从而显著增大了粉体颗粒与等离子体的相互作用表面积，能够显著提升粉体材料的等离子体表面改性效果、效率和一致性，能成功将等离子体表面改性技术从平面材料扩展到粉体材料的改性应用领域。
一种基于纤维载体材料等离子体表面改性方法

[实用新型]一种生产高阻隔真空镀铝薄膜的设备-CN200320120783.4无效
发明人：章卫东;陈旭;潘军 -专利权人：黄山永新股份有限公司
申请日： 2003-12-18 - 公布日： 2005-09-14 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型公开一种高阻隔真空镀铝薄膜的生产设备，包括基材输送装置、真空舟、接受设备，其特征在于：在基材输送装置和真空舟之间将薄膜置于等离子体表面处理设备的高能等离子体区域，即在薄膜处理表面的对面，安装一组在中频交流电压作用下的空心阴极管通过设置的等离子体表面处理设备的高能等离子体区域使等离子体对镀铝薄膜基材的表面进行处理，有效提高了真空镀铝膜的阻隔性能，其阻隔性较同样工艺条件下不经过等离子体表面处理生产的真空镀铝膜提高了3－5倍。
一种生产阻隔真空镀铝薄膜设备

[发明专利]一种绝对密闭的等离子体表面处理装置-CN201410837253.4在审
发明人：王守国;陈春华;孟红;卞忠华 -专利权人：江苏康易达医疗科技有限公司
申请日： 2014-12-29 - 公布日： 2015-03-25 - 主分类号： H05H1/24 文献下载
摘要：本发明公开了一种绝对密闭的等离子体表面处理装置，包括电源组、电机马达组、供气源以及密闭的外壳，其中，外壳内设有等离子体放电处理室，等离子体放电处理室一侧设有放卷轴，另一侧设有收卷轴；等离子体放电处理室内设有若干组被硅胶管包覆的金属管高压电极，以及位于金属管高压电极一侧的、与金属管高压电极平行的地电极；等离子体放电处理室顶部设有进出布口，进出布口上方设有排气罩；等离子体放电处理室底部设有若干进气孔。本发明的绝对密闭的等离子体表面处理装置，主要用途是：对薄膜和各种面料的表面进行等离子体的放电的深度处理，改变其表面能，接枝功能基团，提高粘合性能，具有可以实现深度处理，实现连续生产等优点。
一种绝对密闭等离子体表面处理装置

[发明专利]改善光掩模表面静电的处理方法-CN202310761491.0在审
发明人：罗嘉盈;施维;郑怀志;黄偲;张卓维;甘裕明 -专利权人：广州新锐光掩模科技有限公司
申请日： 2023-06-26 - 公布日： 2023-09-19 - 主分类号： G03F1/82 文献下载
摘要：本申请提供一种改善光掩模表面静电的处理方法，涉及光掩模的领域，其步骤如下：将光掩模进行高温烘烤和/或等离子体表面处理；其中，高温烘烤的温度在80‑200℃，等离子体表面处理采用含氟气体。通过采用高温烘烤、等离子体表面处理或者高温烘烤加等离子体表面处理的方式对光掩模表面进行除静电，能够有效的去除光掩模表面的静电现象，使得光掩模在完成去光阻步骤后，无需等待较长时间，即可进行CD‑SEM的量测
改善光掩模表面静电处理方法

[发明专利]等离子体表面处理的方法以及实现该方法的设备-CN02807383.5无效
发明人：帕维尔·库里克;米克海尔·萨姆索诺夫;亚历山大·切列帕诺夫;叶夫根尼·彼得罗夫 -专利权人： APIT股份有限公司
申请日： 2002-03-26 - 公布日： 2004-07-07 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明涉及一种等离子体表面处理方法，用于待处理对象或粒子的表面，包括制造等离子体，将等离子体应用到待处理表面，本发明方法的特征在于待处理表面被激励或者等离子体被声频地振动，使得待处理表面和等离子体之间产生相对波动
等离子体表面处理方法以及实现设备

[发明专利]一种颗粒状物料低温等离子体表面处理方法及其装置-CN201110101722.2无效
发明人：王红卫 -专利权人：苏州市奥普斯等离子体科技有限公司
申请日： 2011-04-22 - 公布日： 2012-10-24 - 主分类号： H05H1/24 文献下载
摘要：本发明提供一种颗粒状物料低温等离子体表面处理方法，所述方法为：将颗粒状材料放入转鼓内，对其进行表面处理，转鼓内抽真空并可以定量通入反应气体，通过施加电场在转鼓内产生辉光放电等离子体。一种颗粒状物料低温等离子体表面处理装置，所述装置包括转鼓、电极、喂气口、挡板、颗粒物料、等离子体发生电源和抽气口。本发明方法使得原料不容易堆积覆盖，暴露在等离子体气氛中的表面得到较好的处理并且处理均匀性好，处理效率高，处理效果理想。
一种颗粒状物料低温等离子体表面处理方法及其装置

[发明专利]一种纤维增强复合材料等离子体表面改性工艺方法-CN201911329129.6在审
发明人：罗思海;何卫锋;李榕凯 -专利权人：中国人民解放军空军工程大学
申请日： 2019-12-20 - 公布日： 2020-03-31 - 主分类号： C08J7/12 文献下载
摘要：本发明公开一种纤维增强复合材料等离子体表面改性工艺方法，涉及等离子体表面工程领域。包括如下步骤：(1)选择复合材料改性工艺方案：全覆盖处理，加劲肋局部加强处理，局部点加强处理；(2)调节射流等离子体装置处理参数：调节喷嘴尺寸、形式、与复合材料间距，调节射流等离子体输入气体成分，调节放电功率、放电频率，调节处理时间；(3)表面处理：将复合材料置入射流等离子体处理装置中，进行等离子体处理，得到处理后的纤维增强复合材料。经本发明方法处理后的纤维增强复合材料表面发生清洗、刻蚀，同时表面增加了大量活性基团，提高了复合材料的表面能，改善其表面性能，提高胶接界面的结合强度。
一种纤维增强复合材料等离子体表面改性工艺方法

[发明专利]等离子体氧化处理方法、等离子体处理装置和存储介质-CN200780036197.2无效
发明人：盐泽俊彦;壁义郎;小林岳志;足立光;北川淳一;山本伸彦 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2007-09-27 - 公布日： 2009-09-02 - 主分类号： H01L21/316 文献下载
摘要：本发明提供等离子体氧化处理方法、等离子体处理装置和存储介质。该等离子体氧化处理方法包括：在配置在等离子体处理装置的处理容器内的载置台上载置表面具有硅的被处理体的工序；在处理容器内形成含氧的处理气体的等离子体的工序；在形成等离子体时，向载置台供给高频电力，向被处理体施加高频偏压的工序；和利用等离子体，氧化被处理体表面的硅，形成硅氧化膜的工序。
等离子体氧化处理方法装置存储介质

[发明专利]一种基于常压DBD放电的碳纤维表面连续处理方法和装置-CN201911047708.1在审
发明人：罗思海;李榕凯;何卫锋;聂祥樊 -专利权人：中国人民解放军空军工程大学
申请日： 2019-10-30 - 公布日： 2020-02-07 - 主分类号： D06M10/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于常压DBD放电的碳纤维表面连续处理方法和装置，涉及等离子体表面工程技术领域。本发明提供的装置包括：包括供气系统、等离子体发生系统和碳纤维传送系统；供气系统包括气体源和混合气腔体，等离子体发生系统包括激励电源、高压电极、接地电极、绝缘介质以及半密闭腔体，碳纤维传送系统包括驱动装置、送/放装置。碳纤维等离子体表面连续处理方法是将碳纤维通过传动系统连续输送进入到预设的气氛环境介质下DBD放电等离子体工作腔，进行等离子体处理，实现碳纤维表面粗化，同时在表面产生活性基团，从而提高复合材料内部碳纤维与树脂基体的粘结强度
碳纤维等离子体发生系统等离子体表面碳纤维表面传送系统供气系统连续处理等离子体处理放电等离子体工程技术领域方法和装置混合气腔体半密闭腔传动系统高压电极活性基团激励电源接地电极绝缘介质连续输送气氛环境驱动装置树脂基体复合材料工作腔气体源放电常压粗化预设粘结

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