专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]高温超导带材电流密度反演方法、设备及介质-CN202310700307.1有效
  • 高配峰;刘科;王省哲 - 兰州大学
  • 2023-06-14 - 2023-08-15 - G01R19/08
  • 本发明提供了一种高温超导带材电流密度反演方法,S1、获取待测高温超导带材的测量磁场数据;S2、基于测量磁场数据,划分出第一低频电流密度分布、第一高频电流密度分布;S3、基于第一低频电流密度分布,获取第二低频电流密度分布及第二低频磁场分布;基于第二低频磁场分布、测量磁场数据得到第二高频磁场分布;S4、基于第一高频电流密度分布,获取第一高频磁场分布;S5、基于第一高频磁场分布、第二高频磁场分布、第一高频电流密度分布,得到第二高频电流密度分布;S6、迭代S4‑S5直到满足迭代终止条件,输出待测高温超导带材的电流密度分布
  • 高温超导电流密度反演方法设备介质
  • [发明专利]离子注入方法和离子注入装置-CN201010262386.5有效
  • 中尾和浩 - 日新离子机器株式会社
  • 2010-08-25 - 2011-10-19 - H01J37/317
  • 在由向玻璃基板上照射的多个离子束形成的重叠区域中,可以高效地调整各离子束的束电流密度分布。所述离子注入方法包括:束电流密度分布调整工序,按预先确定的顺序,把多个带状离子束分别调整为规定的束电流密度分布;目标修正工序,在束电流密度分布调整工序期间,在对第二个以后的各离子束调整束电流密度分布之前,使用先调整了束电流密度分布的调整结果,针对此后要调整束电流密度分布的离子束,修正作为调整目标的规定的束电流密度分布;以及玻璃基板输送工序,在与多个带状离子束的长边方向交叉的方向上输送玻璃基板。
  • 离子注入方法装置
  • [发明专利]离子注入装置及束电流密度分布的调整方法-CN201010528640.1有效
  • 中尾和浩 - 日新离子机器株式会社
  • 2010-11-01 - 2011-11-09 - H01J37/317
  • 本发明提供离子注入装置及束电流密度分布的调整方法。在使m个(m为2以上的整数)带状离子束在玻璃基板上的照射区域至少部分重叠,在玻璃基板上实现规定的注入量分布的离子注入装置中,能高效地调整各带状离子束的束电流密度分布。对各带状离子束设定作为束电流密度分布的调整目标的目标分布,按照预先决定的顺序,调整第一个至第m-1个带状离子束的束电流密度分布,使得其相对于目标分布进入第一容许范围内。其后,根据将各带状离子束的调整结果合计得到的分布与将对m个离子束设定的目标分布合计得到的分布的差,设定用于调整第m个束电流密度分布的新的目标分布,调整第m个束电流密度分布,使得其相对于新的目标分布进入第二容许范围内
  • 离子注入装置电流密度分布调整方法

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