专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种磁控和脉冲激光沉积装置-CN200920101609.2有效
  • 刘保亭;李晓红;赵庆勋;郭庆林;王英龙 - 河北大学
  • 2009-02-23 - 2009-12-09 - C23C14/34
  • 本实用新型提供一种磁控和脉冲激光沉积装置,其特征在于:在一个真空腔体中设置有磁控溅射靶材和脉冲激光沉积靶材和一个共用的样品台,样品台上固定沉积基片,真空腔体上开设石英窗,真空腔体外设置有用于脉冲激光沉积激光器;磁控溅射靶材的调位机构;脉冲激光沉积靶材的转动控制机构和样品台的转动控制机构。本实用新型可以在同一套物理气相沉积系统中同时进行磁控溅射和脉冲激光沉积,充分发挥磁控溅射和脉冲激光沉积各自的优势,利用磁控溅射生长纳米薄膜结构,且在其生长的过程中利用脉冲激光沉积共溅射出一些零维或一维的纳米结构
  • 一种脉冲激光沉积装置
  • [实用新型]激光光刻辅助电化学沉积制备微织构装置-CN201220171657.0有效
  • 杨海峰;刘磊;郝敬斌;朱华 - 中国矿业大学
  • 2012-04-23 - 2012-12-05 - C25D5/00
  • 一种激光光刻辅助电化学沉积制备微织构装置,包括脉冲激光光刻系统和电化学沉积装置,激光光刻系统由脉冲激光模块、光路传输模块和三维移动模块依次顺序连接;脉冲激光模块由脉冲激光器和控制器组成。采用脉冲激光光刻技术对预先旋涂了光刻胶的金属材料表面进行光刻,然后浸入显影液中除去曝光的光刻胶,继而采用电化学沉积技术对材料表面进行复合镀层的可控电沉积,最后再清除未被曝光的光刻胶,在金属材料表面得到带有规则微观织构的表面复合镀层结合激光光刻加工技术与电化学沉积技术,实现材料表面减摩抗磨性能的最大化。
  • 激光光刻辅助电化学沉积制备微织构装置
  • [发明专利]一种激光脉冲沉积系统及加工方法-CN202110653625.8有效
  • 秦应雄;李晓 - 华中科技大学
  • 2021-06-11 - 2022-10-14 - C23C14/34
  • 本发明公开了一种激光脉冲沉积系统及加工方法,属于激光技术领域。系统包括依次连接的脉冲光源、扫描光路模块和真空沉积模块,脉冲光源发出的光束入射至扫描光路模块,经过扫描光路模块聚焦后斜入射至真空沉积模块,扫描光路模块用于使真空沉积模块内靶材表面任意位置的光斑保持均匀大小,聚焦光斑在靶材表面扫描过程中,衬底与靶材距离保持不变,实现均匀光斑脉冲沉积。本发明提供的激光脉冲沉积系统及加工方法通过控制扫描光路模块,对靶材表面不同区域进行脉冲溅射,实现对大面积、高均匀性薄膜的高效加工。
  • 一种激光脉冲沉积系统加工方法
  • [发明专利]强磁场辅助脉冲激光沉积系统-CN201410033519.X有效
  • 戴建明;张科军;邹键;刘亲壮;盛志高;朱雪斌;吴文彬;孙玉平 - 中国科学院合肥物质科学研究院
  • 2014-01-23 - 2014-05-07 - C23C14/28
  • 本发明公开了一种强磁场辅助脉冲激光沉积系统,包括脉冲激光器、脉冲激光沉积柱状真空室,脉冲激光沉积柱状真空室包括带水冷却的双层夹套柱状腔,双层夹套柱状腔置入超导磁体的镗孔内;双层夹套柱状腔的一侧法兰盘装有基片加热台或激光加热台及其转动机构,双层夹套柱状腔的另一侧法兰盘装有靶组件及其移动/转动机构,基片加热台或者激光加热台和靶组件处于超导磁体的强磁场中部;脉冲激光沉积柱状真空室整体设于滑动导轨上,一侧法兰盘上还安装有密闭的激光导入腔和真空密封的视频装置导入腔本发明制造成本低、结构合理、装配与操作简便、工作稳定可靠,可用于强磁场下的脉冲激光沉积薄膜原位生长和后退火热处理,实现对材料微结构和物性的调控作用。
  • 磁场辅助脉冲激光沉积系统
  • [发明专利]一种短脉冲激光沉积薄膜的制备方法-CN201911097734.5有效
  • 李楠;陈波;李培源;夏洋;卢维尔 - 中国科学院微电子研究所
  • 2019-11-12 - 2023-01-17 - C23C14/28
  • 本发明公开了一种短脉冲激光沉积薄膜的制备方法,通过对衬底进行预处理,将所述预处理后的所述衬底放入短脉冲激光沉积的腔室内;将所述腔室抽真空,旋转所述衬底,对所述衬底加热至第一温度;采用挡板隔离靶材,打开短脉冲激光器激发预热第一时间;向所述腔室内通入工艺气体,待所述腔室内气压与所述短脉冲激光器的温度稳定后,打开靶材旋转装置,将所述靶材挡板打开,打开辅助激光源预热所述靶材第二时间;根据所述短脉冲激光器发射短脉冲激光聚焦于所述靶材表面,激发产生等离子体在所述衬底上沉积获得薄膜,进而达到了有效改善薄膜均匀性,减少薄膜中的杂质颗粒,提高沉积速率和薄膜质量的技术效果。
  • 一种脉冲激光沉积薄膜制备方法

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