“晶种液”专利关键词查询_检索下载_查询列表_检索列表_行业专利分布_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果32757620个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]一种功率脉冲引晶方法-CN202310069824.3在审
发明人：王鑫;王艺澄;王军磊 -专利权人：包头美科硅能源有限公司;云南美科新能源发展有限公司
申请日： 2023-02-07 - 公布日： 2023-06-02 - 主分类号： C30B15/26 文献下载
摘要：本发明属于单晶硅制造技术领域，涉及一种功率脉冲引晶方法；引晶过程分为三个阶段，在引晶第三阶段，用实际引晶液面亮度值与目标引晶液面亮度值对比，若实际引晶液面亮度值不在目标引晶液面亮度值范围内，根据目标引晶液面亮度值与实际引晶液面亮度值的偏差量计算出引晶功率调节量，若实际引晶液面亮度值＞目标引晶液面亮度值，说明引晶温度偏高，功率脉冲调整降低；若实际引晶液面亮度值＜目标引晶液面亮度值，说明引晶温偏低，功率脉冲调整升高；本发明通过监控液面亮度偏差量，利用计算得到功率调整量，通过多个调节周期实现功率调节，使温度控制到工艺要求范围内，大大降低了引晶的技术难度，提高引晶成活率，降低无效工时，提升单晶产量。
一种功率脉冲方法

[实用新型]一种水解晶种制备装置-CN202223558940.1有效
发明人：钱笑雄 -专利权人：安徽迪诺环保新材料科技有限公司
申请日： 2022-12-30 - 公布日： 2023-06-06 - 主分类号： B01F33/80 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种水解晶种制备装置，包括：钛液保温槽（1）；碱液配置槽（2）；钛液升温槽（3），所述钛液升温槽依次通过电动阀门和流量计与钛液保温槽连通；晶种制备槽（4），所述晶种制备槽与钛液升温槽连通，所述晶种制备槽依次通过电动阀门和流量计与碱液配置槽连通。本实用新型的有益效果是增设晶种专用浓钛液保温槽，可根据生产量调整保温槽大小，一次可备一星期的用量，改变了每次制备晶种时晶种浓钛液指标随浓钛液变化，保持了晶种浓钛液指标的稳定，从而稳定晶种指标；晶种制备全流程采用温度、流量、压力与电动阀门联锁，保持每次阀门开阀速度、开度相同，免去人工操作，从根源上解决因操作不同导致晶种指标波动问题。
一种水解制备装置

[发明专利]一种色料钛白粉外加水解晶种的制备方法-CN201810418387.0有效
发明人：黎华挺;申锐 -专利权人：广西金茂钛业有限公司
申请日： 2018-05-04 - 公布日： 2020-10-30 - 主分类号： C01G23/053 文献下载
摘要：本发明提供一种色料钛白粉外加水解晶种的制备方法，属于晶种的制备领域，将晶种钛液放入钛液进行加热，当晶种钛液温度达到72～80℃时，对晶种钛液进行搅拌同时加热。将晶型稳定剂加入到碱液中，对碱液进行加热至79～88℃，把晶种钛液加入到碱液中并加热至90～103℃，检测稳定性是否达到30～150ml，当达到时，停止加热制备完成，当达不到时，保持温度90～103℃，本发明采用快速晶种法替代原来的预制晶种法，并在晶种制作过程中添加一种晶型稳定剂，使晶种具有强烈的金红石转化趋势，使水解产物水合二氧化钛也存在强烈的金红石转化趋势，从而决定色料搪瓷的优越性能。
一种色料钛白粉外加水解制备方法

[实用新型]一种晶须改性的连续生产系统-CN201721847947.1有效
发明人：罗新峰 -专利权人：江西峰竺新材料科技有限公司
申请日： 2017-12-26 - 公布日： 2018-07-31 - 主分类号： C30B29/62 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种晶须改性的连续生产系统，包括：依次连通的预混釜与反应釜；至少两个晶浆配制釜，每个晶浆配制釜上设有晶浆出口，且晶浆出口处设有晶浆阀门；晶浆管道，晶浆管道的第一端与所述预混釜连通，第二端分别与若干晶浆配制釜的晶浆出口连通，晶浆管道处设有晶浆加料泵；液位计，晶浆配制釜上设有液位计；至少两个改性液配制釜，每个改性液配制釜上设有改性液出口，且改性液出口处设有改性液阀门；改性液管道，改性液管道的第一端与预混釜连通，第二端分别与若干改性液配制釜的改性液出口连通，改性液管道处设有计量泵。本实用新型的设备实现改性晶须的连续化生产，提高设备利用率、改性反应程度和生产效率。
改性液晶浆配制釜连通预混釜连续生产系统本实用新型晶浆出口第一端液位计阀门改性种晶设备利用率连续化生产改性反应改性晶须设备实现生产效率依次连通反应釜计量泵加料泵出口

[实用新型]晶圆清洗机台-CN201920451585.7有效
发明人：吕慧超;高英哲;刘家桦 -专利权人：德淮半导体有限公司
申请日： 2019-04-03 - 公布日： 2019-10-11 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型提供一种晶圆清洗机台，所述晶圆清洗机台包括：晶圆清洗槽、排液装置及清洗装置；晶圆清洗槽中的第一清洗液体覆盖位于晶圆清洗槽中的晶圆；排液装置包括分别与晶圆清洗槽相连通的第一排液装置及第二排液装置；清洗装置包括位于晶圆清洗槽上方的清洗喷头，清洗喷头提供第二清洗液体，且第二清洗液体形成的液面覆盖晶圆。本实用新型通过与晶圆清洗槽相连通的排液装置，实现快速排除晶圆清洗槽中的第一清洗液体，提高排液效率；通过清洗装置提供的第二清洗液体，可及时对晶圆进行清洗，从而提高晶圆的清洗效果，提高晶圆的质量。
晶圆清洗排液装置清洗晶圆清洗装置机台本实用新型清洗喷头排液效率清洗机台清洗效果液面覆盖液体覆盖液体形成种晶

[发明专利]一种晶圆刻蚀设备-CN201911322531.1在审
发明人：谢永宁 -专利权人：泉州圆创机械技术开发有限公司
申请日： 2019-12-20 - 公布日： 2020-04-24 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明公开了一种晶圆刻蚀设备，其结构包括顶喷、排液管、蚀刻装置、外固定框架、转盘、电机、底座、顶升油缸，本发明具有的效果：蚀刻装置主要由晶圆固定机构和蚀刻引流机构以及蚀刻回液机构组成，通过泵机形成的输送压力，将液箱内部的蚀刻液传输至顶喷，通过顶喷将蚀刻液以喷淋的方式垂直向下输出，使蚀刻液在泵机作用下，在蚀刻框和液箱之间循环，通过晶圆固定机构和蚀刻引流机构以及蚀刻回液机构形成的晶圆蚀刻结构，能够在蚀刻中使晶圆旋转，并且晶圆外圈会产生一定的外甩引力，使蚀刻液快速充分从晶圆的蚀刻面经过，减少蚀刻液在晶圆中停留的时间，大大提高晶圆的蚀刻效果，使晶圆蚀刻的线路精度高。
一种刻蚀设备

[发明专利]一种带纹路微晶玻璃板材及其制备方法和应用-CN202211459489.X在审
发明人：范忠祥;朱土根;严友春 -专利权人：安徽火凤凰新材料科技有限公司
申请日： 2022-11-16 - 公布日： 2023-03-21 - 主分类号： C03C10/00 文献下载
摘要：本发明属于微晶玻璃板材技术领域，具体公开了一种带纹路微晶玻璃板材及其制备方法和应用，制备方法具体包括以下步骤，(1)制备第一微晶玻璃液和第二微晶玻璃液；(2)对步骤(1)余下的第一微晶玻璃液进行保温、振荡分散，将第二微晶玻璃液流入第一微晶玻璃液中，通过磁性元件定向牵引第二微晶玻璃液中的磁性粉料，得到带纹路的微晶玻璃液；(3)将带纹路的微晶玻璃液通过压延法或浇注法得到带纹路微晶玻璃板材，再对带纹路微晶玻璃板材进行晶化
一种纹路玻璃板材及其制备方法应用

[实用新型]一种湿法蚀刻装置-CN201920525067.5有效
发明人：马文龙;马伟凯;杨荣;徐文彦 -专利权人：天水华洋电子科技股份有限公司
申请日： 2019-04-17 - 公布日： 2019-12-20 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种湿法蚀刻装置，包括晶圆旋转夹盘，固定在晶圆旋转夹盘上的晶圆和回收槽，所述晶圆旋转夹盘靠近边缘的盘面上设有加热层，所述加热层为圆形且与晶圆旋转夹盘同圆心，所述晶圆旋转夹盘下方设有回收槽，所述晶圆上方设有供液管，所述供液管底部设有喷嘴，所述喷嘴呈圆周分布设有多层且与晶圆旋转夹盘同圆心，所述外层喷嘴数量大于内层喷嘴数量，所述供液管通过水泵与供液仓连通，所述供液仓内设有加热管。本实用新型能够补偿蚀刻液在晶圆中心和边缘的温度差，增加蚀刻液在晶圆边缘的流量，提高晶圆的蚀刻均匀度。
晶圆旋转夹盘喷嘴供液管本实用新型回收槽加热层蚀刻液同圆心供液湿法蚀刻装置蚀刻均匀度晶圆边缘晶圆中心外层喷嘴圆周分布温度差多层内层热管连通水泵

[发明专利]晶圆清洗方法及装置-CN200710044635.1有效
发明人：周海锋;齐宝玉;黄仁东 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
申请日： 2007-08-05 - 公布日： 2009-02-04 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种晶圆清洗装置，包括，清洗槽；连通清洗槽的进液装置；连通清洗槽的排液装置；用于探测清洗槽中晶圆并在探测到晶圆时发出晶圆探测信号的探测装置；连通探测装置，用于控制清洗槽、进液装置以及排液装置进行晶圆清洗的清洗控制系统以及用于根据晶圆探测信号监控晶圆处于清洗槽中的时间，并在晶圆处于清洗槽中的时间超过警戒时间时指示排液装置排出清洗液的监控装置。本发明还公开了一种晶圆清洗方法。本发明晶圆清洗方法及装置由于晶圆长时间滞留于清洗液中的问题而避免损坏晶圆。
清洗方法装置

[发明专利]晶圆电镀设备-CN202010461603.7在审
发明人：王振荣;刘红兵 -专利权人：上海新阳半导体材料股份有限公司
申请日： 2020-05-27 - 公布日： 2020-08-21 - 主分类号： C25D7/12 文献下载
摘要：本发明提供一种晶圆电镀设备。该晶圆电镀设备包括：电镀液槽，所述电镀液槽设置有搅拌装置，用于搅拌电镀液；盖子，所述盖子盖接在所述电镀液槽上；晶圆，所述晶圆可旋转地安装在所述盖子上；和第一驱动机构，所述第一驱动机构与所述晶圆传动连接，用于驱动所述晶圆周向旋转。本发明提供的晶圆电镀设备中，电镀过程中，搅拌装置可搅拌电镀液槽中的电镀液，电镀液分布均匀，第一驱动机构可驱动晶圆旋转，金属离子可更均匀地电镀在晶圆表面，避免由于电势线不均匀分布导致金属离子不均匀电镀在晶圆表面
电镀设备

[实用新型]晶圆电镀设备-CN202020926350.1有效
发明人：王振荣;刘红兵 -专利权人：上海新阳半导体材料股份有限公司
申请日： 2020-05-27 - 公布日： 2021-04-30 - 主分类号： C25D17/00 文献下载
摘要：本实用新型提供一种晶圆电镀设备。该晶圆电镀设备包括：电镀液槽，所述电镀液槽设置有搅拌装置，用于搅拌电镀液；盖子，所述盖子盖接在所述电镀液槽上；晶圆，所述晶圆可旋转地安装在所述盖子上；和第一驱动机构，所述第一驱动机构与所述晶圆传动连接，用于驱动所述晶圆周向旋转。本实用新型提供的晶圆电镀设备中，电镀过程中，搅拌装置可搅拌电镀液槽中的电镀液，电镀液分布均匀，第一驱动机构可驱动晶圆旋转，金属离子可更均匀地电镀在晶圆表面，避免由于电势线不均匀分布导致金属离子不均匀电镀在晶圆表面
电镀设备

[发明专利]胶液旋涂装置、控制方法和系统-CN202211709292.7在审
发明人：彭翔 -专利权人：上海集成电路研发中心有限公司
申请日： 2022-12-29 - 公布日： 2023-04-07 - 主分类号： B05C11/08 文献下载
摘要：本发明提供了一种胶液旋涂装置、控制方法和系统，所述装置包括投影单元、移液单元和装载单元；所述投影单元位于所述晶圆顶侧，用于向晶圆表面投影目标点，所述目标点用于定位所述晶圆，以使所述目标点位于晶圆中心；所述移液单元位于所述晶圆与所述投影单元之间，用于吸取并容纳一次旋涂所需的胶液；所述移液单元还用于将所述胶液转移至待旋涂的晶圆表面的所述目标点；所述装载单元位于所述晶圆底侧，用于装载所述晶圆，以使所述晶圆与所述装载单元相对固定；所述装载单元还用于驱动所述晶圆旋转，旋转轴经过所述晶圆中心，以使所述胶液沿所述晶圆表面扩散形成涂层。该装置、控制方法和系统均用于解决光刻胶小样涂布在晶圆上不均匀的问题。
胶液旋涂装置控制方法系统

[发明专利]单面蚀刻方法及单面蚀刻装置-CN201110124604.3无效
发明人：张书省;蔡嘉雄;刘仕伟;茹振宗 -专利权人：均豪精密工业股份有限公司
申请日： 2011-05-11 - 公布日： 2012-11-14 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明提供一种单面蚀刻方法及装置。其中单面蚀刻方法包括提供晶圆，此晶圆具有上表面及下表面；形成液态保护层于晶圆的上表面；使晶圆藉由输送装置通过液槽，液槽容置有蚀刻液；以及使晶圆与蚀刻液接触进行蚀刻。藉由所形成于晶圆上表面的液态保护层，保护晶圆上表面在蚀刻制程中，不会受蚀刻液影响或制程中蚀刻液的喷溅，进一步避免晶圆上表面产生蚀刻痕迹，同时简化生产制程，提高产能效率。
单面蚀刻方法装置

[发明专利]高孔容孔径小比表面积脱硝催化剂用二氧化钛制备方法-CN202210379867.7在审
发明人：钱笑雄;李兵 -专利权人：安徽迪诺环保新材料科技有限公司
申请日： 2022-04-12 - 公布日： 2022-08-05 - 主分类号： C01G23/053 文献下载
摘要：本发明公开了高孔容孔径小比表面积脱硝催化剂用二氧化钛制备方法，包括以下步骤：（1）、晶种制备：钛精矿经过酸解后，通过冷冻工艺单独制备晶种钛液，控制晶种钛液的铁钛比在0.60，所述晶种钛液冷冻后经过浓缩，控制晶种钛液的总钛在190g/L‑200g/L，将配置好的碱液放入晶种制备槽与晶种钛液混合后搅拌成晶种；（2）、水解钛液制备：控制水解钛液的铁钛比为控制在0.50，浓缩总钛控制在180g/L‑190g/L，常压外加所述晶种，加入晶种总钛量为水解钛液总钛的2.0%‑2.5%，所述晶种加入时间为3.5 min‑4.0min，开启蒸汽和搅拌，进行钛液水解。
高孔容孔径表面积催化剂氧化制备方法

[实用新型]一种六氟磷酸锂晶析槽-CN202320027091.2有效
发明人：戴百雄;张建广;刘兵;温志鹏;付娥;王伟 -专利权人：湖北犇星新能源材料有限公司
申请日： 2023-01-04 - 公布日： 2023-07-21 - 主分类号： B01D9/02 文献下载
摘要：本实用新型提供一种六氟磷酸锂晶析槽，涉及六氟磷酸锂晶析技术领域，包括晶析槽外筒体，晶析槽外筒体的内部设置有晶析槽内筒体，晶析槽外筒体和晶析槽内筒体的顶面居中处设置有进料口，晶析槽外筒体和晶析槽内筒体的底部一侧设置有出料口，采用在晶析槽内筒体的内部设置有内部冷凝管，并在晶析槽外筒体与晶析槽内筒体之间为中空结构，通过冷却液入口和冷却液出口可以在晶析槽外筒体与晶析槽内筒体之间循环冷却液，可以在外侧对六氟磷酸锂进行降温，通过循环液入口和循环液出口对内部冷凝管的冷却液进行循环流动便于对晶析槽内筒体内部居中处进行降温，使得晶析槽内筒体的内部降温更加快速且均匀提高生产效率。
一种磷酸锂晶析槽

1
2
3
4
5
6
7
8
9
10
11
12
13
14
15
16
17
18
19
20
下一页»
尾页
共 100000 条