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专利名称
农业 化学；冶金 建筑 机械工程 区域搜索
主分类
A 农业
B 作业；运输
C 化学；冶金
D 纺织；造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]图案描画装置及图案描画方法-CN200910001697.3有效
  • 吉冈正喜 - 大日本网屏制造株式会社
  • 2009-01-15 - 2009-10-07 - G03F7/20
  • 本发明涉及图案描画装置及图案描画方法。本发明提供一种通过时间上连续的描画处理能够对基板整个面进行充分的能量束的可变照射处理的技术。根据合成数据(824)，对于抗蚀剂层RG比较厚的边缘区域(902)，用比抗蚀剂层RG比较薄的图案区域(901)更大的照射强度来进行光束的照射(照射强度值为FF(HEX)＞55(HEX))。由此，通过时间上连续的描画处理，能够进行足够使抗蚀剂变性的曝光处理。
  • 图案描画装置方法
  • [发明专利]图案描画装置及图案描画方法-CN201610640932.1有效
  • 中岛瑛利子 - 亚得科技工程有限公司
  • 2016-08-08 - 2020-12-11 - G03F7/20
  • 本发明提供图案描画装置及图案描画方法。图案描画装置包括：第一摄像部，读取对准标记，并读取位置偏差检测用的第一图案的图像；第二摄像部，读取所述第一图案的图像，并读取边进行工作台与光学头间的相对移动、边通过来自所述光学头的照射光描画出的位置偏差检测用的第二图案的图像；以及位置偏差检测部，基于所述第一摄像部的读取图像求出该第一摄像部的视野中心与所述第一图案的中心之间的第一坐标差，并基于所述第二摄像部的读取图像求出所述第一图案的中心与所述第二图案的特定位置之间的第二坐标差
  • 图案描画装置方法
  • [发明专利]图案描画装置及图案描画方法-CN201910040947.8有效
  • 伊势谷光辉;原望 - 株式会社斯库林集团
  • 2019-01-16 - 2021-12-21 - G03F9/00
  • 提供一种当用多个照相机拍摄形成在基板上的多个标记时，抑制装置成本增加及控制复杂化的技术。图案描画装置(1)是通过在表面形成有多个标记(91)的基板(9)上照射光从而在基板上形成图案的装置。图案描画装置(1)具有：照相机(5a、5d)，拍摄形成在基板(9)上的多个标记(91)；连结件(52a)，将照相机(5a、5d)以在X轴方向(排列方向)上排列的状态连结；排列方向移动机构(54a)，使照相机
  • 图案描画装置方法
  • [发明专利]描画装置以及描画方法-CN201210329992.3有效
  • 吉和隆夫;本庄由宜 - 大日本网屏制造株式会社
  • 2012-09-07 - 2013-03-27 - G03F7/20
  • 本发明涉及一种描画装置以及描画方法。在数据变换部（811）中，对表示各图案的整体的矢量数据进行光栅变换来生成描画光栅数据，并且在生成描画光栅数据时，生成表示该图案中的图案识别用的特征区域的光栅数据即部分光栅数据。将包括描画光栅数据以及部分光栅数据的集合作为描画数据集（51），在存储部（821）中存储有分别与多个图案相对应的多个描画数据集（51）。显示控制部（601），基于包括在多个图案中的被选择的图案的描画光栅数据所属的描画数据集（51）中的部分光栅数据，在显示器（602）上迅速并容易地显示表示该图案的特征区域的图像。
  • 描画装置以及方法
  • [发明专利]光掩模及显示装置的制造方法、光掩模基板的检查方法及装置-CN201710585047.2在审
  • 寺田寿美 - HOYA株式会社
  • 2017-07-18 - 2018-02-02 - G03F1/76
  • 本发明提供一种光掩模及显示装置的制造方法、光掩模基板的检查方法及装置。在光掩模的制造方法中，该光掩模在透明基板的第1主面具有基于设计描画数据的转印用图案，所述光掩模的制造方法包括以下工序将在第1主面上层叠了薄膜和抗蚀剂膜的光掩模基板载置在描画装置的载台上；描画工序，对光掩模基板进行描画；以及使用将抗蚀剂膜显影而形成的抗蚀剂图案对薄膜进行图案形成，在描画工序中，准备表示描画装置对光掩模基板的形状带来的变形量的描画装置固有数据、和表示光掩模基板的第2主面形状的背面数据，将起因于描画装置固有数据及背面数据的坐标偏差合成量反映在设计描画数据中，在光掩模基板上描画转印用图案。
  • 光掩模显示装置制造方法光掩模基板检查装置
  • [发明专利]描画装置及描画方法-CN201811004752.X有效
  • 古仲裕;永井妥由;山本强志;八坂智 - 株式会社斯库林集团
  • 2018-08-30 - 2020-10-27 - G03F7/20
  • 一种描画装置及描画方法。描画数据生成部根据整体图案数据依次生成多个分割描画数据并传送给描画控制部，多个分割描画数据分别对应于将基板上的一个带区域在移动方向上进行分割而得到的多个分割区域。描画控制部通过与载物台沿着移动方向进行连续移动并行地控制描画头，从而对带区域进行图案描画。在带描画时间比带描画数据准备时间长时，从开始生成多个分割描画数据起至开始对最初的分割区域进行描画的延迟时间为与最初的分割区域对应的分割描画数据的生成/传送所需的时间。在带描画时间为带描画数据准备时间以下时，延迟时间为开始对最后的分割区域进行描画的描画开始时刻成为多个分割描画数据的生成/传送的完成时刻的时间。能够提高描画装置的产量。
  • 描画装置方法
  • [发明专利]描画装置、描画方法、层叠基板的制造方法、存储介质-CN202210088844.0在审
  • 鉈落信也;八坂智 - 株式会社斯库林集团
  • 2022-01-25 - 2022-07-26 - H01L21/68
  • 本发明的描画装置具有：描画单元，在基板上描画图案；以及描画数据生成部(42)，生成用于在描画单元中描画图案的描画数据。表示应描画在基板上的图案的设计数据包含作为图案区域的下图形、和重叠在下图形上的上图形。描画数据生成部(42)对下图形以及上图形中的一个图形进行变形处理，通过将未进行变形处理的另一个图形或者进行了与一个图形不同的变形处理的另一个图形与变形后的一个图形重叠，从而生成描画数据。由此，能够适当地生成对下图形以及上图形中的一个图形进行变形处理并且对另一个图形不进行变形处理或者进行了不同的变形处理的描画数据。
  • 描画装置方法层叠制造存储介质
  • [发明专利]描画装置以及对位方法-CN200710142398.2无效
  • 谷口慎也;和田康之;林秀树;小八木康幸 - 大日本网目版制造株式会社
  • 2007-08-22 - 2008-02-27 - G03F7/20
  • 本发明提供一种即使不对对位摄像机使用高性能的驱动机构，在光照射部和对位摄像机的位置关系发生了变化时，也能够在基板上的正确的位置进行描画的图案描画装置以及对位方法。图案描画装置(1)检测出各对位摄像机(41～44)相对于从光学头(32)照射的脉冲光的相对位置的偏移量，并根据该偏移量来修正基板(9)的对位量以及基板(9)的描画开始位置。由此，即使从光学头(32)照射的脉冲光与各对位摄像机(41～44)的位置关系发生了变化，也可以在修正该变化量的同时进行描画处理。因此，图案描画装置(1)能够在基板(9)上的正确位置进行描画。
  • 描画装置以及对位方法
  • [发明专利]描画装置以及描画方法-CN201410125769.6有效
  • 城田浩行;重本宪;永井妥由 - 大日本网屏制造株式会社
  • 2014-03-31 - 2014-10-01 - G03F7/207
  • 本发明提供提高基板端部的带状区域的图案的描画精度的技术。描画装置（100）向形成有感光体的基板（90）照射带状描画光来在基板（90）上描画图案。描画装置具有：多个光学头（33a～33e），射出描画光；副扫描机构（221），使光学头（33a～33e）沿着副扫描方向（+x方向）相对于基板移动；主扫描机构，使光学头沿着主扫描方向（+y、-y方向）相对于基板移动另外，描画装置具有调整多个光学头射出的描画光的焦点位置的自动调焦机构（6）。多个光学头中的一部分光学头（33b～33e）的自动调焦机构将从描画光的中央位置向与副扫描方向相反的方向（-x方向）偏移的基板上的位置作为检测分离距离的变动的检测位置。
  • 描画装置以及方法
  • [发明专利]描画系统-CN202110993331.X在审
  • 早川直人;原望 - 株式会社斯库林集团
  • 2021-08-26 - 2022-03-29 - G03F7/20
  • 本发明提供一种描画系统，第一标记描画部在由第一载物台(21a)保持的基板(9)的下侧主面上描画第一定位标记。第二标记描画部在由第二载物台(21b)保持的基板(9)的下侧主面上描画第二定位标记。因此，通过观察在基板(9)的另一个主面描画的定位标记，可以容易判别对基板(9)的一个主面描画图案时利用的搬运机构。由此，可以在考虑描画图案时利用的搬运机构所特有的正面和背面位置关系来调整描画位置的基础上，在基板(9)的另一个主面上描画图案。结果，可以提高在基板(9)的两侧主面上描画的图案的相对的位置精度。
  • 描画系统
  • [发明专利]描画装置和描画方法-CN201910797277.4有效
  • 久野真士 - 株式会社斯库林集团
  • 2019-08-27 - 2022-04-22 - G03F7/20
  • 本发明提供一种对基板照射光来进行图案的描画的描画装置以及描画方法。描画装置的描画头(31)具备光源(32)、光调制器件(341)和投影光学系统(35)。焦点调节机构(353)通过变更焦点透镜组(351)在光轴上的位置来调节描画头(31)的焦点位置。头控制部基于由压力传感器测定出的描画头(31)的周围的压力，控制焦点调节机构(353)。由此，能够对由描画头(31)的周围的压力变动引起的描画头(31)的焦点位置的偏移进行修正。
  • 描画装置方法
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