专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种用元素补充块进行补的方法-CN201910993535.6在审
  • 赵雪如;张小娟 - 浙江神墨一号科技有限公司
  • 2019-10-22 - 2020-05-26 - A23L33/16
  • 本发明涉及人体保健领域,一种用元素补充块进行补的方法,元素补充块是用堇青石加工成的若干立方块,立方块的边长范围为1厘米至1.8厘米,立方块中硅酸盐的微腔结构的尺寸范围为0.1微米至500微米,包括一.用筷子分别夹取若干块所述元素补充块,置入饮用水或茶水或饮料或酒中,元素补充块能够释放太赫兹波,同时硅酸盐中的元素溶解于水液中,二.饮用溶解有元素且已去除了一些有害物质的饮用水或茶水或饮料或酒;三.元素补充块使用完毕,用筷子夹出所述若干块元素补充块,并用清水冲洗干净;四.将冲洗干净的所述若干块元素补充块置于自然环境中,风干之后,所述若干块元素补充块能够快速地重新吸收大气当中的太赫兹波。
  • 一种元素补充进行方法
  • [发明专利]一种负极极片、电化学装置和电子装置-CN202280007344.8在审
  • 李鑫;崔航;谢远森 - 宁德新能源科技有限公司
  • 2022-09-07 - 2023-09-22 - H01M4/62
  • 负极极片包括负极集流体以及负极活性物质层,负极活性物质层包括负极活性材料、导电剂和粘结剂;负极活性材料包括硫掺杂碳材料和石墨,其中,硫掺杂碳材料包括硫元素元素和碳元素;基于硫元素元素和碳元素的总质量,硫元素的质量百分含量为A%,元素的质量百分含量为B%,碳元素的质量百分含量为C%,A、B和C之间满足:2.14C+2.14AB0.68C+0.84A。本申请提供的负极极片中的硫掺杂碳材料是通过硫元素掺杂碳材料得到,调控A、B和C满足上述关系,能够有效缓解材料的体积膨胀,提高硫掺杂碳材料的电导率,有利于改善负极极片的导电性,从而改善电化学装置的循环性能
  • 一种负极电化学装置电子
  • [发明专利]一种熔体可控凝固去除杂质元素的方法-CN202010669322.0有效
  • 魏奎先;邓小聪;马文会;吕国强 - 昆明理工大学
  • 2020-07-13 - 2022-08-12 - C01B33/037
  • 本发明涉及一种熔体可控凝固去除杂质元素的方法,属于工业冶炼技术领域。本发明将熔体连续匀速加入到定向凝固连铸装置中,控制熔体的温度和流速、凝固速度以实现杂质元素的偏析富集,得到杂质元素含量梯级分布的锭产品,对锭产品进行取样检测,确定杂质元素含量梯级分布的节点,并对锭进行分级处理得到不同杂质元素总质量含量的各牌号等级的工业产品,其中杂质元素包括Al、Ca、Mn、Ti、Mg、P、B、S、V、Cr、Ni、Cu、Zn、Zr中的一种或多种。本发明可与现有的工业冶炼、熔体炉外精炼提纯的过程相结合,对熔体直接进行高效提纯,实现熔体中杂质元素的同步高效去除,精炼提纯后可将产品的等级提高2‑3个等级。
  • 一种硅熔体可控凝固去除杂质元素方法
  • [发明专利]一种n型单晶的生长方法-CN201610364056.4在审
  • 张俊宝;刘浦锋;宋洪伟;陈猛 - 上海超硅半导体有限公司
  • 2016-05-30 - 2016-08-24 - C30B29/06
  • 本发明提供一种n型单晶生长方法,选择P作为n型单晶的主掺杂元素,且在单晶生长过程中加入,加入具有相反作用的Ga作为半导体单晶副掺杂元素,抵消单晶中P浓度增量,控制单晶生长过程中的电阻波动。同时当单晶的重量达到特定要求时,一次或多次加入副掺杂元素Ga,可进一步精确控制单晶中的共掺杂元素综合浓度,减小电阻率的波动,也可以避免副掺杂元素的挥发性对熔体中掺杂元素浓度的影响,提高单晶生长的良品率
  • 一种单晶硅生长方法

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