专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]处理装置及处理-CN201410384461.3有效
  • 伊泽义信 - 山崎明彦;伊泽义信
  • 2009-07-29 - 2014-11-19 - B01D21/01
  • 本发明提供了一种处理装置及用于其的处理袋,不仅可大幅消减设置面积,而且可大幅消减动力费用,进而可使可动部件的耐久性进一步提高。其特征在于,水槽的内部通过将具有由不可渗透的柔性片材形成为密闭状的处理袋主体和向所述处理袋主体内部供给处理对象液的供给口及向外部排出处理液的排出口的处理袋浸渍于贮存有持续保持水位的填充水的水槽内而被划分成所述处理袋主体的内侧空间和贮存所述填充水的外侧空间
  • 处理装置
  • [发明专利]处理装置及处理方法-CN200910179979.2有效
  • 菱谷克幸 - 东京毅力科创株式会社
  • 2009-10-16 - 2010-06-09 - H01L21/00
  • 本发明提供处理装置及处理方法。该处理装置包括:搬入容纳容器的搬入区域、维持为与该搬入区域不同的气氛的移载区域、划分搬入区域和移载区域的隔离壁、形成于隔离壁上的开口部、用于开闭开口部的门、将容纳容器配置在搬入区域侧的载置部,上述容纳容器容纳有多个被处理基板在将容纳容器载置保持于载置部上之后使其抵接于开口部,打开门及盖而将容纳容器内的被处理基板输送到移载区域侧进行处理,该处理装置设有将与开口部相抵接的容纳容器的凸缘部推压到开口部侧的推压机构。
  • 处理装置方法
  • [发明专利]处理装置和处理方法-CN200910005625.6有效
  • 泽田郁夫;松浦广行;高桥俊树 - 东京毅力科创株式会社
  • 2009-01-20 - 2009-07-29 - H01L21/00
  • 本发明提供一种处理装置和处理方法,该处理装置对被处理体(W)进行热处理处理装置具有:能够收容多个被处理体(W)的处理容器(22);设于处理容器(22)外侧的感应加热用线圈部(104);对感应加热用线圈部(104)施加高频电力的高频电源(110);将气体导入处理容器(22)内的气体供给部(90);在处理容器(22)内保持被处理体(W)的保持部(24);和通过来自感应加热用线圈部(104)的高频感应加热并加热被处理体(W)的感应发热体(N)。
  • 处理装置方法
  • [发明专利]处理装置和处理方法-CN201310070532.8有效
  • 藤田博;矶明典;添田胜之;西部幸伸;佐佐木真一 - 株式会社东芝;芝浦机械电子株式会社
  • 2013-03-06 - 2013-09-18 - B05C5/00
  • 本发明提供一种即使在利用回收的处理液进行处理的情况下也能够进行恰当的处理处理装置和处理方法。根据一个实施方式,处理装置具备输送被处理物的输送部、回收已供给到由输送部输送的被处理物的处理面上的第一处理液的回收部、将由回收部回收的第一处理液向被处理物的处理面喷出的第一喷嘴、设置在第一喷嘴的输送方向的下游侧且向被处理物的处理面喷出第二处理液的第二喷嘴、以及设置在第二喷嘴的输送方向的下游侧且向被处理物的处理面喷出清洗液的第三喷嘴。而且,第二喷嘴朝着与相对输送方向垂直的方向相比向输送方向的下游侧喷出第二处理液,第三喷嘴朝着与相对输送方向垂直的方向相比向输送方向的上游侧喷出清洗液。
  • 处理装置方法
  • [发明专利]处理方法以及处理装置-CN03130946.1有效
  • 立山清久 - 东京毅力科创株式会社
  • 2003-05-09 - 2003-11-19 - H01L21/00
  • 处理方法以及处理装置,本发明提供一种处理方法和处理装置,准备设定成先处理的基板(G)的处理条件的作为第1处理部的热处理单元(70a~70c),和设定成后处理的基板(G)的处理条件的至少一个作为第2处理部的辅助热处理单元(70s),在将先处理的基板(G)传送到第1处理部中进行处理的期间,将第2处理部设定成后处理的基板(G)的处理条件并使其待机,在第1处理部的处理结束后,在第2处理部中对后处理的基板(G)进行处理,在第2处理部中进行处理的期间,将第1处理部变更成与第2处理部相同的处理条件对被处理的基板(G)进行处理,在第2处理部的处理结束后,将第2处理部变更成进而后处理的基板(G)的处理条件并使其待机,连续地进行多个基板(G)的处理
  • 处理方法以及装置
  • [发明专利]处理装置及处理方法-CN200810133839.7有效
  • 藤波靖;浜田俊也 - 索尼公司
  • 1998-10-16 - 2009-01-21 - G11B20/10
  • 本发明提供一种处理装置及处理方法。该处理装置包括:编码器,其配置为编码视频和/或音频信号以生成流文件;处理器,其配置为生成特征点信息,所述特征点信息包括由节目使用的许多流、每个流的标识信息、以及对应每个标识信息的每个流的属性信息,所述特征点信息被包括在对应每个流文件的节目信息文件中
  • 处理装置方法
  • [发明专利]处理装置及处理方法-CN200610136643.4有效
  • 伊藤猛;齐藤智一 - 雅马哈精密科技株式会社
  • 2006-10-27 - 2007-05-09 - G05B19/18
  • 本发明涉及一种处理装置(穿孔装置),其使具有多个被处理部的被处理物(柔性基板)和具有多个处理部(摄像部及穿孔部)的处理头的任一方相对于另一方相对移动,由此对多个被处理部实施规定的处理。具体地说,基于多个被处理部的坐标数据及处理头上所具有的多个处理部的位置关系,对于全部被处理部计算出用于实施第一处理的所述处理头与所述被处理物间的相对位置与用于实施第二处理的所述处理头与所述被处理物间的相对位置之间的距离,并基于该计算结果决定处理顺序。沿按照该处理顺序决定的最短的移动路径使被处理物或处理头移动,由此对各被处理部依次执行第一及第二处理。通过缩短移动路径来实现处理时间的缩短。
  • 处理装置方法

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