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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]静电吸盘-CN201910675335.6在审
发明人：籾山大;佐佐木均 -专利权人： TOTO株式会社
申请日： 2019-07-25 - 公布日： 2020-02-11 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明提供一种静电吸盘，其能够在提高等离子体密度的面内均匀性的同时也提高RF敏感性。
电极层主面陶瓷电介体基板等离子体面内均匀性高频电源静电吸盘中央部面侧吸附电源供电

[发明专利]静电吸盘-CN201910644993.9在审
发明人：籾山大;佐佐木均 -专利权人： TOTO株式会社
申请日： 2019-07-17 - 公布日： 2020-02-11 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本发明提供一种静电吸盘，其能够在提高RF敏感性的同时提高等离子体密度的面内均匀性。
主面陶瓷电介体基板电极层表面粗糙度基座板等离子体面内均匀性高频电源静电吸盘对象物主面相吸附支撑

[发明专利]吸盘插头-CN201811048159.5在审
发明人：郑福建 -专利权人：重庆市巫山县远孝机械有限责任公司
申请日： 2018-09-10 - 公布日： 2020-03-17 - 主分类号： H01R13/44 文献下载
摘要：本发明公开了一种吸盘插头，其结构包括插头体、插杆和吸盘；所述插头体的正面设有插杆；所述插头体的正面设有吸盘；所述吸盘将所述插杆围住；所述吸盘为外层和内层的双层吸盘；所述吸盘的外层和内层之间的空间为密闭室本发明的有益效果是：当插头插在插座上时，吸盘便将插头吸附在插座上，这样外界的金属丝就不能进入到插头与插座之间的空间将插头的两个插杆链接短路。同时因为吸盘的吸附作用，插头插在插在上不会松动更不会脱落。
吸盘插头

[发明专利]吸盘插座-CN201811048160.8在审
发明人：郑福建 -专利权人：重庆市巫山县远孝机械有限责任公司
申请日： 2018-09-10 - 公布日： 2020-03-17 - 主分类号： H01R13/639 文献下载
摘要：本发明公开了一种吸盘插座，其结构包括插座体和吸盘；所述插座体的正面设有插孔；所述插座体的正面设有吸盘；所述吸盘将所述插孔围住；所述吸盘为外层和内层的双层吸盘；所述吸盘的外层和内层之间的空间为吸盘室。本发明的有益效果是：当插头插在插座上时，吸盘便将插头吸附在插座上，这样外界的金属丝就不能进入到插头与插座之间的空间将插头的两个插杆链接短路。同时因为吸盘的吸附作用，插头插在插在上不会松动更不会脱落。
吸盘插座

[发明专利]静电吸盘-CN201910976863.5在审
发明人：白石纯;西愿修一郎;森达哉;渡边仁弘 -专利权人： TOTO株式会社
申请日： 2019-10-15 - 公布日： 2020-05-08 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供一种静电吸盘，在设置有多孔质部的静电吸盘中，能够进一步抑制电弧放电的发生。
静电吸盘

[发明专利]静电吸盘-CN201910976997.7在审
发明人：白石纯;西愿修一郎;森达哉;渡边仁弘 -专利权人： TOTO株式会社
申请日： 2019-10-15 - 公布日： 2020-05-08 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供一种静电吸盘，在设置有多孔质部的静电吸盘中，能够进一步抑制电弧放电的发生。
静电吸盘

[发明专利]静电吸盘-CN201911012188.0在审
发明人：裵敏镐;权赫巨世;尹泰镐 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2019-10-23 - 公布日： 2020-05-01 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：公开了静电吸盘。静电吸盘包括基底、位于基底上的垫层、位于垫层上的电极层以及位于电极层上的介电层，基底、垫层、电极层和介电层具有通孔。
静电吸盘

[发明专利]吸盘装置-CN202010521707.2在审
发明人：林秋雄;王传柱;萧维迪;苏文燕 -专利权人：健鼎（无锡）电子有限公司
申请日： 2020-06-10 - 公布日： 2021-12-10 - 主分类号： B25J15/06 文献下载
摘要：本发明公开一种吸盘装置，包括固定头座、上盖、压舱本体、吸盘及固定支架。吸盘具有吸盘上部及吸盘下部，吸盘上部内形成气室，吸盘上部及吸盘下部之间具有隔板，该隔板上设有多个吸盘孔，该些吸盘孔与气室相连通，吸盘上部套设于固定头座的吸盘固定部，气室与第一通孔相连通。
吸盘装置

[发明专利]吸盘装置-CN202111183835.1在审
发明人：张小军;刘长文;谭晓军 -专利权人：张小军;刘长文;谭晓军
申请日： 2021-10-11 - 公布日： 2021-12-21 - 主分类号： B23Q3/08 文献下载
摘要：本申请提供一种吸盘装置，包括：底座、盖板及若干闭气组件，底座的顶部开设有通气凹槽，盖板呈密闭的固定遮盖于通气凹槽的顶部，通气凹槽与盖板的底部之间形成一通气腔体，盖板的底部竖直朝上开设有若干供闭气组件一一对应安装的安装凹槽
吸盘装置

[发明专利]静电吸盘-CN202110494926.0在审
发明人：李珠熙;卢喆来;赵秀范;许明洙;沃洛诺夫·亚历山大;延智元;柳海永;张容文 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2021-05-07 - 公布日： 2021-11-23 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：提供了一种静电吸盘，所述静电吸盘固定基底并且包括第一区域和与第一区域相邻的第二区域。所述静电吸盘包括：第一电极部分，设置在第一区域中；以及第二电极部分，设置在第二区域中。
静电吸盘

[发明专利]吸盘装置-CN202111107246.5在审
发明人：叶佑宏;吕秉修;卢昱霖;黄泰源 -专利权人：日月光半导体制造股份有限公司
申请日： 2021-09-22 - 公布日： 2022-01-07 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本公开涉及一种吸盘装置。该装置包括：外框，具有第一表面；吸附部件，设置于第一表面，吸附部件包括复数个呈同心圆设置的圆形沟槽和两个贯穿每一圆形沟槽的直线沟槽，其中，两个直线沟槽交叉设置并夹设有一锐角。
吸盘装置

[发明专利]静电吸盘-CN202080036383.1在审
发明人：佐藤真树;板仓郁夫;西愿修一郎;白石纯;籾山大;小林幸太 -专利权人： TOTO株式会社
申请日： 2020-08-24 - 公布日： 2022-01-28 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本发明提供一种静电吸盘，具备：导电性的基座板，具有第1部分和设置在所述第1部分的外周的第2部分，设置有导入冷却气体的气体导入路；第1静电吸盘部，设置在所述第1部分上，构成为可吸附晶片，具备具有连通于所述气体导入路的至少一个穿通孔的陶瓷电介体基板和内置于所述陶瓷电介体基板的第1吸附电极；及第2静电吸盘部，设置在所述第2部分上，构成为可吸附聚焦环，具备具有可导入冷却气体的至少一个穿通孔的陶瓷层，所述陶瓷层至少具有当所述聚焦环吸附于所述第2静电吸盘部时接触所述聚焦环的第1层，所述第由此，提供一种可提高设备的成品率的静电吸盘。
静电吸盘

[发明专利]磁性吸盘-CN202111004126.2在审
发明人：佐藤太平 -专利权人： SMC株式会社
申请日： 2021-08-30 - 公布日： 2022-03-01 - 主分类号： F16B47/00 文献下载
摘要：本发明提供一种磁性吸盘。磁性吸盘(10)具备：缸筒(12)，该缸筒具有吸附工件(W)的工件吸附面(12c)；活塞组件(14)，该活塞组件包含永磁体(42)，并且能够在缸筒的内部空间(25)内移动，将缸筒的内部空间分隔为第一压力室
磁性吸盘

[发明专利]气阀吸盘-CN202010987389.9在审
发明人：罗方韦 -专利权人：智高实业股份有限公司
申请日： 2020-09-18 - 公布日： 2022-03-18 - 主分类号： F16B47/00 文献下载
摘要：一种气阀吸盘包含壳体单元、穿设于所述壳体单元的阀件，及安装于所述壳体单元的吸附件。所述阀件包括头部、大杆径部、小杆径部，及第二肩面。本发明只需要通过按压或拉拔所述阀件的头部便能控制气阀吸盘是否吸附壁面，产生结构简易与便于操作的效果。
气阀吸盘

[发明专利]静电吸盘-CN202310336113.8在审
发明人：山口康介;白石纯;板仓郁夫;籾山大;西愿修一郎 -专利权人： TOTO株式会社
申请日： 2019-02-28 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供一种静电吸盘，在设置有多孔质部的静电吸盘中，能够确保对电弧放电的抗性及流动的气体流量，同时能够提高多孔质部的机械强度(刚性)。提供一种静电吸盘，其特征为，第1多孔质部具有：疏松部分，具有多个孔；及紧密部分，具有比疏松部分的密度更高的密度，多个疏松部分分别在从基座板朝向陶瓷电介体基板的第1方向上延伸，紧密部分位于多个疏松部分的彼此之间
静电吸盘

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