专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]向电路基板安装元件的安装程序的优化装置-CN202080100209.9在审
  • 大桥辉之 - 株式会社富士
  • 2020-05-11 - 2022-12-09 - G05B19/418
  • 优化装置在包含至少一台元件安装机的元件安装线中对向电路基板安装元件的安装程序进行优化优化装置具备:安装程序输入部、执行部、显示部、选择部及安装程序更新部。安装程序输入部输入在至少一台元件安装机中使用的优化前的安装程序。执行部对输入的优化前的安装程序以多个条件执行优化处理。显示部对通过各优化处理而求出的多个优化结果进行比较显示。选择部从多个优化结果中选择一个优化结果。安装程序更新部对优化前的安装程序基于选择出的优化结果而进行更新。
  • 路基安装元件程序优化装置
  • [发明专利]光源掩模协同优化方法-CN201510810017.8有效
  • 宋之洋;郭沫然;韦亚一;董立松;于丽贤 - 中国科学院微电子研究所
  • 2015-11-20 - 2020-02-21 - G03F1/36
  • 本发明提供了一种光源掩模协同优化方法,包括:输入初始参数;选择部分输入版图参与优化;进行光源掩模协同优化,得到满足光刻工艺条件的优化光源;调整掩模可制造性规则,重新进行版图优化;根据能否满足工艺条件,确定成本最低的掩模可制造性规则;根据确定的可制造性规则,对所有的输入版图进行版图优化;获得最终的优化版图。该方法在进行光源掩模协同优化过程中,可以对掩模可制造性进行规则优化,使得优化后的掩模版制造成本以及缺陷数量降低,还减少了参与协同优化的掩模版图图形数量,提高了优化效率。
  • 光源协同优化方法
  • [发明专利]异类文件优化-CN201110386132.9有效
  • R·卡拉赫;M·J·迪克森 - 微软公司
  • 2011-11-18 - 2012-07-11 - G06F17/30
  • 本发明涉及异类文件优化。此处描述了能够异类地优化文件的技术。异类优化包括非统一地优化文件的诸区域。例如,文件的诸区域可以优化到不同的程度。根据该示例,可以使用不同的优化技术来优化每个区域或区域的子集。一方面,基于与文件的各个区域相关联的访问模式,向该各个区域分配优化标记。文件可以是数据库文件、虚拟化存储文件,或其他合适的文件类型。每个优化标记指示了相应区域将被优化到的程度。每个区域可被优化到由被分配给该区域的相应优化标记所指示的程度。
  • 异类文件优化

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