[实用新型]平面磁控溅射源无效

专利信息
申请号: 96206868.3 申请日: 1996-03-08
公开(公告)号: CN2241698Y 公开(公告)日: 1996-12-04
发明(设计)人: 韩进才;余明心;甘国工;徐予明 申请(专利权)人: 甘国工
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35
代理公司: 四川省专利服务中心 代理人: 江晓萍
地址: 610041 四川省成*** 国省代码: 四川;51
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型提供了一种平面磁控溅射源。有吊挂组件,阴极屏蔽罩,置于阴极屏蔽罩中的阴极体,电极引入组件,悬挂式阳极组件。结构合理,散热性和密封性能好,稳定性好,在高电压下有良好的安全可靠性。
搜索关键词: 平面 磁控溅射
【主权项】:
1、平面磁控溅射源,其特征在于所述的溅射源中有吊挂组件,含主板、侧板、水冷通道(9)的阴极屏蔽罩,置于阴极屏蔽罩中的阴极体,含水冷通道(30)和阴极电源引入组件的电极引入组件,含阳极主板的悬挂式阳极组件,阴极体中有含环式轨道槽的基体,置于环式轨道槽中的可产生溅射磁场的磁体,置于磁体上的导磁组件,位于磁体轨道槽开口面处的复盖阴极基体面的金属密封板,位于金属密封板非密封面上的与金属密封板连接的溅射工作体,基体轨道槽和金属密封板间形成的阴极水冷通道(25),吊挂组件中有置于真空溅射室开口处上的吊挂板,位于吊挂板上部的加强筋,与加强筋连接的顶盖板,吊挂板下部有由数个密封联接件和数块组合件组成的将阴极屏蔽罩和阴极体连接且连接在吊挂板上的吊挂机构,加强筋和顶盖板间形成了水冷、电极引入空间。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于甘国工,未经甘国工许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/96206868.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top