[发明专利]超高纯氨制备系统、高精密电子元件制造系统及其生产线上工作站供应高纯氨试剂的方法无效
| 申请号： | 95197886.1 | 申请日： | 1995-06-05 |
| 公开（公告）号： | CN1080703C | 公开（公告）日： | 2002-03-13 |
| 发明（设计）人： | J·G·霍夫曼;R·S·克拉克 | 申请（专利权）人： | 斯塔泰克文切斯公司 |
| 主分类号： | C01C1/02 | 分类号： | C01C1/02;H01L21/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 孙爱 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提出高精密电子元件制造过程中所用高纯氨的现场制备系统及方法，包括从液体氨储存容器采出氨蒸汽，再使氨蒸汽通过可滤除小到０．００５微米颗粒的过滤器，随后于高－pH含水液—蒸汽接触单元内洗涤经过滤的蒸汽。$#! | ||
| 搜索关键词： | 高纯 制备 系统 精密 电子元件 制造 及其 生产 线上 工作站 供应 试剂 方法 | ||
【主权项】：
1超高纯氨的制备系统，该系统包括：(a)液面上留有蒸汽空间的液体氨储存容器；(b)自所述蒸汽空间采出含氨气蒸汽的装置；(c)自所采出蒸汽除却＞0.005微米颗粒的过滤膜；及(d)液-蒸汽接触单元，用以使已通过所述过滤膜的滤后蒸汽与氨的除离子水溶液接触并因此制得纯化氨气。
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