[实用新型]一种提高真空镀膜均匀性的气路装置

摘要

本申请公开了一种提高真空镀膜均匀性的气路装置，涉及真空镀膜技术领域，包括总流管，所述总流管顶端的中间位置处连通有进口管，所述总流管下方的两侧均设置有分流管，所述支流管一和支流管二的表面均安装有过滤网，且过滤网位于出气孔的内部。本申请通过设置有插接管、卡块、弹簧、卡接槽以及组装槽，弹簧与分流管为焊接连接，卡块与弹簧固定连接，并且卡块通过弹簧为弹力复位，插接管固定在支流管二和支流管一两侧，而插接管有与卡块插接的卡接槽，卡接槽呈环形等间距分布，实现了该提高真空镀膜均匀性的气路装置能够根据需要对支流管二和支流管一进行角度调节，调节出气孔的朝向。