[发明专利]光刻胶组合物、光刻胶图案化的方法及膜层图案化的方法在审
| 申请号： | 202211583173.1 | 申请日： | 2022-12-09 |
| 公开（公告）号： | CN115793394A | 公开（公告）日： | 2023-03-14 |
| 发明（设计）人： | 李林霜;段淼;朱钦富;陈黎暄 | 申请（专利权）人： | TCL华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/027 | 分类号： | G03F7/027;G03F7/004;G03F7/16;G03F7/20;G03F7/30 |
| 代理公司： | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人： | 张惠 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本申请提供一种光刻胶组合物、光刻胶图案化的方法以及膜层图案化的方法，光刻胶组合物包括：含碳碳双键的环氧树脂；含碳碳双键和羟基的单体；阳离子光引发剂；以及热引发剂。利用该光刻胶组合物形成的光刻胶层在经过加热和曝光处理后，对蚀刻过程中使用的蚀刻液具有良好的抗蚀性能。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 组合 图案 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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