[发明专利]一种基于器件离子注入和扩散的云图显示方法及系统在审
| 申请号： | 202211410954.0 | 申请日： | 2022-11-11 |
| 公开（公告）号： | CN115588472A | 公开（公告）日： | 2023-01-10 |
| 发明（设计）人： | 李兴冀;魏亚东;杨剑群;吕钢 | 申请（专利权）人： | 哈尔滨工业大学 |
| 主分类号： | G16C20/80 | 分类号： | G16C20/80;G16C60/00 |
| 代理公司： | 北京隆源天恒知识产权代理有限公司 11473 | 代理人： | 吴航 |
| 地址： | 150000 黑龙*** | 国省代码： | 黑龙江;23 |
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| 摘要： | 本发明提供一种基于器件离子注入和扩散的云图显示方法及系统，涉及半导体工艺制造技术领域。本发明所述的方法包括，构建器件结构模型，获取工艺过程中的离子注入参数和扩散参数，将所述离子注入参数和所述扩散参数输入所述器件结构模型，对所述工艺过程进行仿真，得到离子注入云图和扩散云图，采用真实器件工艺对所述离子注入云图和所述扩散云图进行建模仿真并显示；本发明所述的技术方案，通过建模仿真及显示，准确模拟和预估离子注入和扩散步骤，达到了直观精确显示掺杂情况的效果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 器件 离子 注入 扩散 云图 显示 方法 系统 | ||
【主权项】：
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