[发明专利]变容管及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202211252531.0 申请日: 2022-10-13
公开(公告)号: CN115498047A 公开(公告)日: 2022-12-20
发明(设计)人: 潘梓澎;刘一凡;张志勇 申请(专利权)人: 北京元芯碳基集成电路研究院;北京大学
主分类号: H01L29/94 分类号: H01L29/94;H01L29/51;H01L21/334
代理公司: 北京庚致知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11807 代理人: 孙敬霞;韩德凯
地址: 100195 北京*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 本公开提供了一种变容管及其制备方法。本公开的一些实施例中,变容管包括:衬底、沟道层、短接的源漏电极、栅介质层和栅极,沟道层为碳纳米管薄膜,栅介质层采用铁电材料,衬底、沟道层、源漏电极、栅介质层和栅极形成金属‑铁电‑半导体MFS结构。本公开提供的变容管可以在实现双向电压工作的同时,获得大于5的变容比,并保持较高的Q值和工作频率,满足高集成度大带宽射频电路的需求。
搜索关键词: 变容管 及其 制备 方法
【主权项】:
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