[发明专利]一种混气装置、镀膜喷淋装置及半导体镀膜设备

摘要

本发明涉及喷淋镀膜领域，特别是公开了一种混气装置、镀膜喷淋装置及半导体镀膜设备，包括基材主体，所述基材主体填充于混气管道中，使通过所述混气管道中的气体只能沿所述基材主体上的延展气道前进并穿过所述混气装置；所述气体在所述延展气道内行进的距离长于所述基材主体填充的混气管道的管道段的长度。本发明通过在预定承担混气作用的管道内填充所述基材主体，得到蜿蜒前进的延展气道，使参与气体混合的气体在所述延展气道内前进的距离远长于所述基材主体填充的混气管道的管道段的长度，实现不同气体的充分混合，提高混合气体的均匀性。