[发明专利]电容薄膜规、压力测量方法、系统、电子设备及存储介质有效

专利信息
申请号: 202210422504.7 申请日: 2022-04-21
公开(公告)号: CN114544065B 公开(公告)日: 2022-07-15
发明(设计)人: 刘乔;王凤双;侯少毅;黎天韵;肖永能;卫红;胡强 申请(专利权)人: 季华实验室
主分类号: G01L9/12 分类号: G01L9/12;G01L27/00
代理公司: 佛山市海融科创知识产权代理事务所(普通合伙) 44377 代理人: 陈椅行
地址: 528200 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 本申请涉及电容薄膜规技术领域,具体提供了电容薄膜规、压力测量方法、系统、电子设备及存储介质,应用在压力测量系统中,压力测量系统包括膜片、陶瓷基体、固定电极和多个第一测量电极,固定电极用于根据其与膜片的距离生成第一测量电容信息,第一测量电极圆周阵列在固定电极外侧,多个第一测量电极分别用于根据其与膜片的距离生成对应的第二测量电容信息,压力测量方法包括以下步骤:获取第一测量电容信息和第二测量电容信息;根据不同位置的第一测量电极生成的第二测量电容信息检测膜片形变是否均匀,并根据第一测量电容信息和若干个第二测量电容信息计算压力值;该方法能够实现自适应校正测量被测气体的压力值。
搜索关键词: 电容 薄膜 压力 测量方法 系统 电子设备 存储 介质
【主权项】:
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