[发明专利]磁头及磁记录装置在审

专利信息
申请号: 202210078110.4 申请日: 2022-01-24
公开(公告)号: CN115410603A 公开(公告)日: 2022-11-29
发明(设计)人: 中川裕治;成田直幸;高岸雅幸;前田知幸;永泽鹤美 申请(专利权)人: 株式会社东芝;东芝电子元件及存储装置株式会社
主分类号: G11B5/10 分类号: G11B5/10;G11B5/11;H01L29/82
代理公司: 北京市中咨律师事务所 11247 代理人: 万利军;段承恩
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 提供能够实现记录密度的提高的磁头及磁记录装置。根据实施方式,磁头包括第1、第2磁极和设置于第1、第2磁极之间的层叠体。层叠体包括第1磁性层、设置于第1磁性层与第2磁极之间的第2磁性层、设置于第1磁性层与第2磁性层之间的第1非磁性层、设置于第2磁性层与第2磁极之间的第2非磁性层及设置于第1磁极与第1磁性层之间的第3非磁性层。第1磁性层包含包括Fe、Co及Ni的至少1个的第1元素。第2磁性层包含(Fe100‑xCox)100‑yEy(10atm%≤x≤50atm%,10atm%≤y≤90atm%)。第2元素E包括选自由Cr、V、Mn、Ti及Sc构成的群的至少1个。第1磁性层不包含第2元素,或者,第1磁性层中的第2元素的浓度比第2磁性层中的第2元素的浓度低。
搜索关键词: 磁头 记录 装置
【主权项】:
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