[发明专利]照射源和相关联的量测设备在审
| 申请号： | 202180060240.9 | 申请日： | 2021-06-14 |
| 公开（公告）号： | CN116134972A | 公开（公告）日： | 2023-05-16 |
| 发明（设计）人： | 金文杰;P·W·斯摩奥伦堡;林楠;C·L·波特;D·欧德威尔;C·L·阿诺德;S·N·L·多纳斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | H05G2/00 | 分类号： | H05G2/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王益 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 披露了一种照射源，包括：气体输送系统，所述气体输送系统被配置成提供气体目标以用于在所述气体目标的相互作用区处产生发射辐射；和干涉仪，所述干涉仪利用干涉仪辐射来照射所述气体目标的至少一部分以测量所述气体目标的性质。 | ||
| 搜索关键词： | 照射 相关 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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