[实用新型]一种口红表面高均匀喷绘设备有效
| 申请号： | 202121095305.7 | 申请日： | 2021-05-21 |
| 公开（公告）号： | CN215685460U | 公开（公告）日： | 2022-02-01 |
| 发明（设计）人： | 田勇 | 申请（专利权）人： | 上海臻臣化妆品有限公司 |
| 主分类号： | A45D40/00 | 分类号： | A45D40/00;B44C1/00 |
| 代理公司： | 嘉兴启帆专利代理事务所(普通合伙) 33253 | 代理人： | 张抗震 |
| 地址： | 201499 上海市奉贤区钜*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种口红表面高均匀喷绘设备，包括底座，第一喷绘机主体，第二喷绘机主体，喷头，收集箱，外排管，支撑器，固定器，上料管口，支架和控制箱，其中：第一喷绘机主体和第二喷绘机主体通过支架呈镜像的位置设置在底座上表面的两端；所述收集箱设置在底座表面中间的下方。本实用新型第一喷绘机主体，第二喷绘机主体，喷头，支撑器和固定器的设置，在使用时，便于对多种不同的口红进行固定工作，喷绘后便于取放，同时具有较高的喷绘工作效率，便于市场推广和应用。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 口红 表面 均匀 喷绘 设备 | ||
【主权项】：
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