[发明专利]制造显示装置的方法在审
| 申请号： | 202110674778.0 | 申请日： | 2021-06-18 |
| 公开（公告）号： | CN113921561A | 公开（公告）日： | 2022-01-11 |
| 发明（设计）人： | 千宗焕;金正洙;金鎭洙;朴东硕 | 申请（专利权）人： | 三星显示有限公司 |
| 主分类号： | H01L27/32 | 分类号： | H01L27/32 |
| 代理公司： | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人： | 田野;刘灿强 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 提供了一种制造显示装置的方法，在该方法中，通过在主加工之前，将激光照射到显示基底的加工区域的一部分，并预测和校正激光所照射到的位置，来降低显示基底的缺陷率。所述方法包括：将第一激光照射到显示基底的加工区域的第一照射区域；获得显示基底的加工区域的第一图像；通过使用第一图像来计算被第一激光照射的第一照射区域的中心与加工区域的中心之间的第一位移；基于第一位移确定第二激光将要照射到显示基底上的第二照射区域；以及将第二激光照射到第二照射区域。 | ||
| 搜索关键词： | 制造 显示装置 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的；包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的，或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的；包括有热磁组件的
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
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