[发明专利]一种用于5G高速电路板的沉锡装置在审
| 申请号: | 202110530503.X | 申请日: | 2021-05-15 |
| 公开(公告)号: | CN113445032A | 公开(公告)日: | 2021-09-28 |
| 发明(设计)人: | 方丽霞 | 申请(专利权)人: | 方丽霞 |
| 主分类号: | C23C18/31 | 分类号: | C23C18/31;H05K3/18;B08B15/04 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 475400 河南省开*** | 国省代码: | 河南;41 |
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| 摘要: | 本发明公开了一种用于5G高速电路板的沉锡装置,包括支撑结构,其用于连接各个内部结构,所述支撑结构还包括:箱体、支撑柱、凹槽、滑槽、沉锡液、连接盒、伺服电机,固定结构,其用于对电路板进行固定,所述固定结构还包括:电动推杆、横杆、转轴、上固定辊、轮轴、下固定辊、橡胶垫、电路板、空腔、蜗轮、蜗杆、转动轴,沉锡结构,其用于对电路板进行沉锡,所述沉锡结构还包括:顶板、上喷头、直杆、下喷头、液体管道、涡轮叶片、回流管道。优点在于:首先利用固定结构对电路板进行固定,通过电动推杆控制上固定辊的移动,从而有效的对不同尺寸电路板进行固定,同时利用橡胶垫对电路板进行缓冲,防止电路板因摩擦而损坏。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 用于 高速 电路板 装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
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