[发明专利]阵列基板与显示装置在审
| 申请号: | 202110296865.7 | 申请日: | 2021-03-19 |
| 公开(公告)号: | CN115113445A | 公开(公告)日: | 2022-09-27 |
| 发明(设计)人: | 刘金刚;郭远辉;石侠;江鹏;廖燕平 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;武汉京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号: | G02F1/1362 | 分类号: | G02F1/1362;G02F1/1333;G02F1/1343;G02F1/1339 |
| 代理公司: | 北京律智知识产权代理有限公司 11438 | 代理人: | 王辉;阚梓瑄 |
| 地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | 本公开涉及显示技术领域,具体而言,涉及一种阵列基板与显示装置。该阵列基板可包括:第一衬底;晶体管,形成在所述第一衬底上;有机绝缘层,形成在所述第一衬底上并覆盖所述晶体管;隔垫物,形成在所述有机绝缘层远离所述第一衬底的一侧,且所述隔垫物在所述第一衬底上的正投影与所述晶体管在所述第一衬底上的正投影的至少部分重叠。该方案便于让滑动后的隔垫物能够快速复位,从而缓解当面板受到碰撞或挤压后容易导致漏光的情况出现,此外,还可提升面板的开口率,进而提升面板的透过率。 | ||
| 搜索关键词: | 阵列 显示装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;武汉京东方光电科技有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;武汉京东方光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202110296865.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。





