[发明专利]一种单光子雪崩二极管及其制造方法、光检测器件及系统在审

专利信息
申请号: 202080099985.1 申请日: 2020-07-17
公开(公告)号: CN115428152A 公开(公告)日: 2022-12-02
发明(设计)人: 杨玉怀;高桥秀和;何志宏;谢承志 申请(专利权)人: 华为技术有限公司
主分类号: H01L27/144 分类号: H01L27/144;H01L31/107
代理公司: 深圳市深佳知识产权代理事务所(普通合伙) 44285 代理人: 孙超
地址: 518129 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 本申请实施例提供一种单光子雪崩二极管及其制造方法、光检测器件及系统,第一掺杂结构形成于第二掺杂结构的一侧水平表面以及侧壁,第一掺杂结构与第二掺杂结构相邻近的区域用于形成雪崩区,而第二掺杂结构和第一掺杂结构相邻近的拐角区域的高场区更容易形成雪崩区,即雪崩效应发生在第二掺杂结构和第一掺杂结构的边缘区,因此产生雪崩效应的概率较大,而覆盖材料能够提供使第一掺杂材料层中的多子从边缘向中心运动的电场,利于第一掺杂材料层中的光生载流子向雪崩区移动,因此在一定程度上提高电荷收集效率,因此该器件具有较高的量子效率,从而可以具有较高的光探测效率。
搜索关键词: 一种 光子 雪崩 二极管 及其 制造 方法 检测 器件 系统
【主权项】:
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  • 王兴;尹飞;郭可飞;乔凯;汪韬;李鸣 - 中国科学院西安光学精密机械研究所
  • 2023-02-27 - 2023-07-04 - H01L27/144
  • 本发明公开了一种低串扰平面型单光子探测器阵列及其制备方法,主要解决现有平面型单光子探测器的像元占空比低,像元吸收区隔离效果较差等技术问题。本发明的探测器阵列在两个相邻的P型掺杂区之间设置绝缘隔离沟道,从而降低了像元间的串扰,具有较好的隔离效果;同时台阶孔状的P型掺杂区也提高了像元的占空比,从而提高了该类探测器阵列对应的探测器的综合性能。本发明的制备方法包括以下步骤:对衬底层双面抛光;生长外延层;制作钝化层;通过两次Zn扩散,得到P型掺杂区;在两个相邻的P型掺杂区之间制作隔离沟道;制作P型电极和N型电极,进而得到探测器阵列。
  • 异质半导体结构及其制造方法-201811213720.0
  • D.卡罗瑟斯 - 三星电子株式会社
  • 2018-10-18 - 2023-07-04 - H01L27/144
  • 本发明涉及一种异质半导体结构及其制造方法。该异质半导体结构包括第一集成电路和第二集成电路,第二集成电路是光子集成电路。该异质半导体结构可以通过以倒装芯片的方式将多层源管芯接合到第一集成电路、去除源管芯的衬底、以及使用蚀刻和/或沉积工艺在源管芯上制造一个或更多个部件以形成第二集成电路来制造。第二集成电路可以包括由立方相镓氮化物化合物制成的部件,并且被配置为在短于450nm的波长下工作。
  • 距离传感器及距离图像传感器-201780052894.0
  • 间瀬光人;平光纯;岛田明洋 - 浜松光子学株式会社
  • 2017-05-30 - 2023-06-27 - H01L27/144
  • 距离传感器具备硅基板和传送电极。硅基板具备相互相对的第一主面和第二主面。在硅基板的第一主面侧设置有根据入射光产生电荷的电荷产生区域和收集来自电荷产生区域的电荷的电荷收集区域。传送电极在第一主面上配置于电荷产生区域和电荷收集区域之间。传送电极根据输入的信号使电荷从电荷产生区域流入电荷收集区域。在第二主面的至少与电荷产生区域对应的区域形成有多个凸部。多个凸部具有相对于硅基板的厚度方向倾斜的斜面。在凸部中硅基板的(111)面作为斜面露出。凸部的高度为200nm以上。
  • 一种光电突触器件及其应用-202110537677.9
  • 朱锐;梁会力;王燕;刘尧平;梅增霞 - 松山湖材料实验室
  • 2021-05-17 - 2023-06-20 - H01L27/144
  • 本申请提供一种光电突触器件及其应用,属于人工突触技术领域。光电突触器件包括多个电性连接的光电突触元器件。每个光电突触元器件包括层叠设置的基片、非晶氧化镓层以及收集电极,非晶氧化镓层与收集电极相邻设置,非晶氧化镓层中氧空位浓度的控制可通过在0~0.2sccm的氧流量条件下磁控溅射沉积得以实现。光电突触器件具备较稳定的突触性能和较低的突触触发能耗;光电突触器件用作模拟生物突触行为的器件在人工神经网络硬件中的应用,能以较低能耗执行突触事件;光电突触器件用作图像处理的器件在图像传感设备中的应用,能有效实现抑噪。
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