[发明专利]一种清洗抛光垫的方法及装置在审
| 申请号： | 202011223294.6 | 申请日： | 2020-11-05 |
| 公开（公告）号： | CN114434332A | 公开（公告）日： | 2022-05-06 |
| 发明（设计）人： | 王建新 | 申请（专利权）人： | 西安奕斯伟硅片技术有限公司;西安奕斯伟材料技术有限公司 |
| 主分类号： | B24B53/017 | 分类号： | B24B53/017;B24B49/00 |
| 代理公司： | 西安维英格知识产权代理事务所(普通合伙) 61253 | 代理人： | 沈寒酉;王渝 |
| 地址： | 710065 陕西*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明实施例公开了一种清洗抛光垫的方法及装置；该方法可以包括：高压清洗喷头按照设定角度向抛光垫上的目标区域喷射去离子水流时，通过在所述抛光垫上方的设定位置所设置的压力传感器感应反射水流的压力值；相应于所述反射水流的压力值大于设定的第一压力阈值，延长所述高压清洗喷头向所述目标区域喷射去离子水流的时长；相应于所述反射水流的压力值小于设定的第二压力阈值，移动所述高压清洗喷头以向所述目标区域的下一区域喷射去离子水。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 清洗 抛光 方法 装置 | ||
【主权项】：
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