[发明专利]紫外LED外延片及其制备方法与应用有效

专利信息
申请号: 202011129880.4 申请日: 2020-10-20
公开(公告)号: CN112259654B 公开(公告)日: 2022-02-22
发明(设计)人: 贺龙飞;赵维;张康;何晨光;吴华龙;廖乾光;陈志涛 申请(专利权)人: 广东省科学院半导体研究所
主分类号: H01L33/14 分类号: H01L33/14;H01L33/06;H01L33/00;A61L2/10;A61L2/26;A61L9/20
代理公司: 北京商专永信知识产权代理事务所(普通合伙) 11400 代理人: 李彬彬;陈莉娥
地址: 510651 广*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开一种紫外LED外延片及其制备方法与应用,其中,紫外LED外延片包括依次外延生长的n型半导体层、有源层、电子阻挡层和p型半导体层;电子阻挡层由第一子层和第二子层交替生长而成的超晶格结构组成,第一子层为氮化硼铝层,第二子层为氮化铝镓层。本发明提供的紫外LED外延片采用交替生长的氮化硼铝层和氮化铝镓层构成电子阻挡层,使得电子阻挡层导带的能级位置更高,提高电子的有效势垒高度,有效阻挡电子跃迁到p型半导体层;同时,降低电子阻挡层与有源区的空穴势垒高度,显著改善空穴注入有源层的注入效率;因此,能提高有源区的辐射复合速率,从而提高紫外LED的发光效率。
搜索关键词: 紫外 led 外延 及其 制备 方法 应用
【主权项】:
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