[发明专利]半导体工程的反应副产物收集装置有效
| 申请号： | 202010004481.9 | 申请日： | 2020-01-03 |
| 公开（公告）号： | CN112337226B | 公开（公告）日： | 2022-05-03 |
| 发明（设计）人： | 赵宰孝;李在濬;韩明必 | 申请（专利权）人： | 未来宝株式会社 |
| 主分类号： | B01D46/24 | 分类号： | B01D46/24 |
| 代理公司： | 北京青松知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11384 | 代理人： | 郑青松 |
| 地址： | 韩国京畿道平*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明公开了适用于半导体工程的反应副产物收集装置，在反应副产物收集装置中，包括：外壳，采用圆筒管形态，配备有形成气体流入口的上板以及形成向内部延长凸出的气体排出口的下板，用于在对所流入的排出气体进行收容之后再进行排出；以及，流路变更式垂直型内部收集塔，以悬挂的形态安装于上述外壳内部，由用于对所流入的排出气体中的反应副产物进行收集的盘型收集部、扩散板、圆筒形收集部以及圆筒形过滤器收集部构成。 | ||
| 搜索关键词： | 半导体 工程 反应 副产物 收集 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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