[发明专利]防反射构造体在审
| 申请号： | 201980101384.7 | 申请日： | 2019-11-25 |
| 公开（公告）号： | CN114556161A | 公开（公告）日： | 2022-05-27 |
| 发明（设计）人： | 佐藤英秋;上门洋祐;冈田泰幸;花冈真悟;高桥幸男;森本俊辅 | 申请（专利权）人： | 大冢科技株式会社 |
| 主分类号： | G02B1/11 | 分类号： | G02B1/11;G02B1/118 |
| 代理公司： | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人： | 黄盼 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 防反射构造体包括：主体，所述主体由含有黑色的色料的原料构成；以及防反射构造，所述防反射构造形成于所述主体的外表面，所述防反射构造包括：多个凹部，所述多个凹部相对于所述外表面凹陷而形成；以及基座部，所述基座部形成相邻的所述凹部的边界部并在所述外表面具有顶部，所述凹部的深度方向上的所述基座部的截面曲线包含形成为曲线状的所述顶部，包含所述曲线状的所述顶部的一部分作为圆弧的假想圆具有50μm以下的直径φ。 | ||
| 搜索关键词： | 反射 构造 | ||
【主权项】：
暂无信息
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