[发明专利]工件的两面抛光方法及工件的两面抛光装置在审
| 申请号： | 201980094479.0 | 申请日： | 2019-12-26 |
| 公开（公告）号： | CN113573843A | 公开（公告）日： | 2021-10-29 |
| 发明（设计）人： | 宫崎裕司 | 申请（专利权）人： | 胜高股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/005 | 分类号： | B24B37/005;B24B37/08;B24B49/03;H01L21/304 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 李婷;王玮 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的工件的两面抛光方法，包括：抛光前指标计算工序，在前批次中的两面抛光后，对于进行了该两面抛光的工件计算指标Xp；目标抛光时间计算工序，利用规定预测式，计算现批次中的目标抛光时间；以及两面抛光工序，利用所述目标抛光时间，两面抛光工件。并且，本发明的工件的两面抛光装置，具备：测定部，在前批次中的两面抛光后，测定进行该两面抛光的所述工件厚度工件的厚度；第1计算部，计算指标Xp；第2计算部，利用规定预测式，计算所述现批次中的目标抛光时间Tt；以及控制部，控制成利用所述目标抛光时间Tt两面抛光所述工件。 | ||
| 搜索关键词： | 工件 两面 抛光 方法 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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