[发明专利]用于清洁真空系统的方法、用于真空处理基板的方法、及用于真空处理基板的设备在审
| 申请号： | 201980067814.8 | 申请日： | 2019-01-30 |
| 公开（公告）号： | CN112867574A | 公开（公告）日： | 2021-05-28 |
| 发明（设计）人： | 曼纽尔·拉德克 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | B08B9/00 | 分类号： | B08B9/00;B08B7/00;C23C14/56;C23C16/44;H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国;赵静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 描述了一种用于清洁真空腔室(特别是用于OLED装置的制造中的真空腔室)的方法。此方法包括利用活性物种清洁真空腔室的内侧及真空腔室的内侧的元件的至少一者，用于产生这些活性物种的处理气体包括至少90％的氧及至少2％的氩，特别是，其中处理气体包括约95％的氧及约5％的氩。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 清洁 真空 系统 方法 处理 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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