[实用新型]一种交叉耦合滤波器有效

专利信息
申请号: 201921412784.3 申请日: 2019-08-28
公开(公告)号: CN210040477U 公开(公告)日: 2020-02-07
发明(设计)人: 卜伟;龚红伟 申请(专利权)人: 中兴通讯股份有限公司
主分类号: H01P1/20 分类号: H01P1/20
代理公司: 11332 北京品源专利代理有限公司 代理人: 孟金喆
地址: 518057 广东省深圳市*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 本申请公开一种交叉耦合滤波器,包括介质谐振主体、至少四个调谐孔、至少一个容性耦合槽和至少一个感性耦合孔,其中,调谐孔、容性耦合槽和感性耦合孔均设置于介质谐振主体的同一表面上,调谐孔用于调整交叉耦合滤波器的频率,容性耦合槽设置在相邻的两个调谐孔之间,容性耦合槽在交叉耦合滤波器所在平面上的投影呈十字形,用于形成电场为主的电容耦合,与电感耦合极性相反,产生带外零点增强抑制,感性耦合孔设置在相邻的两个调谐孔之间,感性耦合孔贯穿介质谐振主体,用于形成电感耦合,配合电容耦合,形成带外零点。本申请中的交叉耦合滤波器能够实现容性耦合,滤波抑制能力强,结构简单,易于加工成型,提高了可生产性。
搜索关键词: 容性耦合 调谐孔 滤波器 感性耦合孔 交叉耦合 介质谐振 电感耦合 电容耦合 电场 极性相反 加工成型 所在平面 同一表面 槽设置 能力强 生产性 十字形 滤波 申请 投影 贯穿 配合
【主权项】:
1.一种交叉耦合滤波器,其特征在于,包括:/n介质谐振主体、至少四个调谐孔、至少一个容性耦合槽和至少一个感性耦合孔,其中,所述调谐孔、所述容性耦合槽和所述感性耦合孔均设置于所述介质谐振主体的同一表面上;/n所述调谐孔,用于调整所述交叉耦合滤波器的频率;/n所述容性耦合槽设置在相邻的两个所述调谐孔之间,所述容性耦合槽在所述交叉耦合滤波器所在平面上的投影呈十字形,用于形成电场为主的电容耦合,与电感耦合的极性相反,产生带外零点增强抑制;/n所述感性耦合孔设置在相邻的两个所述调谐孔之间,所述感性耦合孔贯穿所述介质谐振主体,用于形成电感耦合,配合所述电容耦合,形成带外零点。/n
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