[发明专利]具有扰流结构的光罩盒在审
| 申请号: | 201911141711.X | 申请日: | 2019-11-20 |
| 公开(公告)号: | CN111830782A | 公开(公告)日: | 2020-10-27 |
| 发明(设计)人: | 庄家和;薛新民;林书弘;邱铭乾 | 申请(专利权)人: | 家登精密工业股份有限公司 |
| 主分类号: | G03F1/66 | 分类号: | G03F1/66 |
| 代理公司: | 北京市浩天知识产权代理事务所(普通合伙) 11276 | 代理人: | 刘云贵 |
| 地址: | 中国台*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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| 摘要: | 本发明公开一种具有扰流结构的光罩盒,包括本体及盖体,本体的中央区域有光罩置放区,盖体盖合于本体,盖体的边缘区域与本体的边缘区域以凸部及凹部相互组合,凹部及凸部搭配形成环绕光罩置放区的扰流结构,其中扰流结构包括在凹部及凸部之间的扰流通道,且本体在形成扰流通道的表面上具有至少内缩的侧壁,以形成集尘空间。借由本发明的具有扰流结构的光罩盒,当气流挟带的尘粒自外部进入扰流通道,尘粒将被滞留于集尘空间中,因而有效阻拦尘粒进入光罩置放区。 | ||
| 搜索关键词: | 具有 结构 光罩盒 | ||
【主权项】:
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
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