[发明专利]基于磁电子学阵列式可调谐太赫兹波发射器及其制作方法在审

专利信息
申请号: 201910750647.9 申请日: 2019-08-14
公开(公告)号: CN110441929A 公开(公告)日: 2019-11-12
发明(设计)人: 林贤;金钻明;马国宏 申请(专利权)人: 上海大学
主分类号: G02F1/09 分类号: G02F1/09;G02F1/00
代理公司: 北京金智普华知识产权代理有限公司 11401 代理人: 杨采良
地址: 200444 上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明属于光电功能器件技术领域,公开了一种基于磁电子学阵列式可调谐太赫兹发射器及其制作方法,基于磁电子学阵列式可调谐太赫兹波发射器从下往上依次为:基片衬底、金属层I、铁磁层、金属层II、覆盖层;所述基片衬底、金属层I、铁磁层、金属层II、覆盖层均通过原子级别的生长方式结合在一起。本发明利用物理或化学的方法在基片衬底上蒸镀多层复合膜,利用微纳加工技术制备阵列结构;本发明发射器所发射的电磁波频率在0.1THz~10THz范围,发射太赫兹波振幅、频宽、中心频率、波形可调谐;本发明的阵列式太赫兹波发射器具有体积小、转换效率高、频谱宽和可调谐等优点。
搜索关键词: 可调谐 发射器 太赫兹波 金属层 阵列式 电子学 衬底 覆盖层 铁磁层 光电功能器件 太赫兹发射器 微纳加工技术 电磁波频率 多层复合膜 原子级别 阵列结构 中心频率 转换效率 发射 体积小 频谱 频宽 蒸镀 制备 制作 生长
【主权项】:
1.一种基于磁电子学阵列式可调谐太赫兹波发射器,其特征在于,所述基于磁电子学阵列式可调谐太赫兹波发射器从下往上依次为:基片衬底、金属层I、铁磁层、金属层II、覆盖层;所述基片衬底、金属层I、铁磁层、金属层II、覆盖层均通过原子级别的生长方式结合在一起。
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