[发明专利]一种半导体芯片生产用浸没式光刻机及其方法

摘要

本发明公开了一种半导体芯片生产用浸没式光刻机及其方法，其一种半导体芯片生产用浸没式光刻机包括工作台，所述工作台的顶部固定安装有支撑架，所述支撑架的底部固定安装有探测头，所述工作台的顶部滑动连接有移动托盘，且移动托盘上固定连接有横向位置调节组件，所述工作台的顶部固定安装有顶部设置有开口的处理箱，所述处理箱的一侧转动铰接有密封门。本发明结构简单，可以机械化的对硅片进行清洗、烘干，无需人工操作，大大节省了人力，同时可以为满足对硅片的生产需要，同时可以对硅片的横向位置进行调节，使得此光刻机本体可以对不同硅片进行光刻，使用方便，具有较强的实用性。

主权项

1.一种半导体芯片生产用浸没式光刻机，包括工作台，其特征在于，所述工作台的顶部固定安装有支撑架，所述支撑架的底部固定安装有探测头，所述工作台的顶部滑动连接有移动托盘，且移动托盘上固定连接有横向位置调节组件，所述工作台的顶部固定安装有顶部设置有开口的处理箱，所述处理箱的一侧转动铰接有密封门，所述处理箱的顶部固定安装有对称设置两个支撑板，且两个支撑板相互靠近的一侧固定安装有同一个横板，所述横板的底部固定安装有推杆电机，所述推杆电机的输出轴上设置有夹持组件，且夹持组件上夹持固定有硅片，所述处理箱内设置有清洗组件和烘干组件。