[发明专利]一种阵列基板的制备方法及阵列基板、显示面板有效

专利信息
申请号: 201910555671.7 申请日: 2019-06-25
公开(公告)号: CN110246884B 公开(公告)日: 2021-08-06
发明(设计)人: 李鑫;樊星;温向敏 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人: 李欣
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及显示设备技术领域,公开了一种阵列基板的制备方法及阵列基板、显示面板,该阵列基板的制备方法,包括:在衬底上依次制备薄膜晶体管器件层、像素平坦层、具有起伏结构的胶体层和与胶体层具有相同起伏结构的有机电致发光器件层,其中,有机电致发光器件层包括依次形成于胶体层背离衬底一侧的阳极、有机发光层和阴极。该阵列基板的制备方法中制备了具有起伏结构的胶体层和与胶体层具有同样起伏结构的有机电致发光器件层,制备方法简便且能够更好的提高出光效率。
搜索关键词: 一种 阵列 制备 方法 显示 面板
【主权项】:
1.一种阵列基板的制备方法,其特征在于,包括:在衬底上制备薄膜晶体管器件层;在所述薄膜晶体管器件层背离所述衬底的一侧制备像素平坦层;在所述像素平坦层背离所述衬底的一侧涂覆一层混合有纳米小球的胶体层,将所述混合有纳米小球的胶体层加热固化,除去所述混合有纳米小球的胶体层中的纳米小球以形成背离所述衬底的一侧表面具有起伏结构的胶体层;在所述胶体层背离所述衬底的一侧制备与所述胶体层具有相同起伏结构的有机电致发光器件层,其中,所述有机电致发光器件层包括依次形成于所述胶体层背离所述衬底一侧的阳极、有机发光层和阴极。
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