[发明专利]薄膜蚀刻剂组合物及使用其形成金属图案的方法在审

专利信息
申请号: 201910427437.6 申请日: 2019-05-22
公开(公告)号: CN110552006A 公开(公告)日: 2019-12-10
发明(设计)人: 金镇亨;郑周焕;金真淑;金学喆;李秉洙;金昌树;郑正植;金童基;金相泰;南基龙;朴英哲;沈庆辅;林大成;张晌勋 申请(专利权)人: 三星显示有限公司;东友精细化工有限公司
主分类号: C23F1/02 分类号: C23F1/02;C23F1/30;H01L27/32
代理公司: 11641 北京金宏来专利代理事务所(特殊普通合伙) 代理人: 杜正国
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 提供了用于防止被蚀刻的金属的再吸附并均匀地蚀刻薄膜的薄膜蚀刻剂组合物。薄膜蚀刻剂组合物包括基于薄膜蚀刻剂组合物的总重量的约43wt%至约46wt%的磷酸、约5wt%至约8wt%的硝酸、约10wt%至约17wt%的乙酸、约1wt%至约3wt%的硝酸铁(iron nitrate)、约0.7wt%至约1.5wt%的磷酸盐和作为剩余量的去离子水。
搜索关键词: 薄膜蚀刻 蚀刻 乙酸 去离子水 磷酸盐 剩余量 硝酸铁 硝酸 磷酸 吸附 薄膜 金属
【主权项】:
1.一种薄膜蚀刻剂组合物,包括:/n基于所述薄膜蚀刻剂组合物的总重量的43wt%至46wt%的磷酸;/n5wt%至8wt%的硝酸;/n10wt%至17wt%的乙酸;/n1wt%至3wt%的硝酸铁;/n0.7wt%至1.5wt%的磷酸盐;以及/n作为剩余量的去离子水。/n
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