[发明专利]掩模板、显示面板、显示面板的制作方法和显示装置在审
申请号: | 201910338856.2 | 申请日: | 2019-04-25 |
公开(公告)号: | CN110018610A | 公开(公告)日: | 2019-07-16 |
发明(设计)人: | 张怡;杨星星 | 申请(专利权)人: | 武汉天马微电子有限公司 |
主分类号: | G03F1/62 | 分类号: | G03F1/62;G03F1/64;G09F9/30 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 孟金喆 |
地址: | 430205 湖北省武汉市*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明实施例公开了一种掩模板、显示面板、显示面板的制作方法和显示装置,该掩模板用于衬底基板成膜过程中,衬底基板包括显示区和围绕显示区的边框区,显示区中设置有透光区,该掩模板包括:边框遮挡部、透光遮挡部和至少一个连接条;边框遮挡部包括相互连接且相邻设置的第一侧边和第二侧边;连接条用于将透光遮挡部固定连接于第一侧边和/或第二侧边;其中,边框遮挡部与边框区相对应,透光遮挡部与透光区相对应。本发明实施例提供的技术方案,可降低掩模板成本,同时有利于提高显示面板的制作良率,有利于降低显示面板的制作成本。 | ||
搜索关键词: | 显示面板 遮挡 掩模板 侧边 边框 显示区 透光 衬底基板 显示装置 边框区 连接条 透光区 制作 成膜过程 相邻设置 良率 | ||
【主权项】:
1.一种掩模板,其特征在于,用于衬底基板成膜过程中,所述衬底基板包括显示区和围绕所述显示区的边框区,所述显示区中设置有透光区;所述掩模板包括:边框遮挡部、透光遮挡部和至少一个连接条;所述边框遮挡部包括相互连接且相邻设置的第一侧边和第二侧边;所述连接条用于将所述透光遮挡部固定连接于所述第一侧边和/或所述第二侧边;所述边框遮挡部与所述边框区相对应,所述透光遮挡部与所述透光区相对应。
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- 本发明实施例提供了一种掩膜板的制备方法、掩膜板及掩膜板的清洁方法,其中,所述掩膜板的制备方法包括:提供一基板,制备纳米溶胶涂层的前驱溶液,所述纳米溶胶涂层的前驱溶液包括含钛化合物和微酸性溶液,将所述纳米溶胶涂层的前驱溶液沉积在所述基板的表面,对表面沉积有纳米溶胶涂层的前驱溶液的基板进行高温处理形成二氧化钛薄膜。本发明实施例提供的掩膜板的制备方法制备的掩膜板能实现大面积的掩膜板清洁并能够避免擦拭过程中对掩膜板造成磨损。
- 专利分类
G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备