[发明专利]图像传感器及其制造方法以及成像装置在审
| 申请号： | 201910332799.7 | 申请日： | 2019-04-24 |
| 公开（公告）号： | CN110035209A | 公开（公告）日： | 2019-07-19 |
| 发明（设计）人： | 朱克宝;陈世杰;黄晓橹 | 申请（专利权）人： | 德淮半导体有限公司 |
| 主分类号： | H04N5/225 | 分类号： | H04N5/225 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 张荣海 |
| 地址： | 223300 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本公开涉及图像传感器及其制造方法以及成像装置。提供了一种图像传感器，包括：图像传感器，其特征在于包括：第一像素，包括第一微透镜和在第一微透镜的下方的被配置成感测第一波长范围的辐射的第一辐射感测元件；第二像素，包括第二微透镜和在第二微透镜的下方的被配置成感测第二波长范围的辐射的第二辐射感测元件，其中，第二波长范围包含第一波长范围并且比第一波长范围宽，并且第二微透镜的受光面的表面积比第一微透镜的受光面的表面积小。 | ||
| 搜索关键词： | 微透镜 波长 图像传感器 辐射 成像装置 感测元件 感测 受光 像素 表面积比 配置 制造 | ||
【主权项】：
1.一种图像传感器，其特征在于包括：第一像素，包括第一微透镜和在第一微透镜的下方的被配置成感测第一波长范围的辐射的第一辐射感测元件；第二像素，包括第二微透镜和在第二微透镜的下方的被配置成感测第二波长范围的辐射的第二辐射感测元件，其中，第二波长范围包含第一波长范围并且比第一波长范围宽，并且第二微透镜的受光面的表面积比第一微透镜的受光面的表面积小。
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