[发明专利]装置的压力系统的操作方法及执行该方法的装置在审
| 申请号： | 201910143644.9 | 申请日： | 2019-02-26 |
| 公开（公告）号： | CN110223899A | 公开（公告）日： | 2019-09-10 |
| 发明（设计）人： | L.韩 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司显微镜有限责任公司 |
| 主分类号： | H01J37/02 | 分类号： | H01J37/02;H01J37/06;H01J37/08;H01J37/244 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 王蕊瑞 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于操作对物体进行成像、分析、和/或处理的装置的压力系统的方法。本发明涉及一种用于执行这种方法的粒子束装置。该方法包括：将泵与压力储器断开；将压力储器连接至真空腔室上；测量压力储器中存在的储器压力、确定第一时刻时储器压力的第一压力值以及第二时刻时储器压力的第二压力值，第二时刻晚于第一时刻；确定储器压力的第一压力值与储器压力的第二压力值之间的函数关系，函数关系是时间函数；针对晚于第二时刻的时刻来外推函数关系；使用外推的函数关系来确定阈值时刻，阈值时刻是外推的函数关系达到压力阈值时的时刻；确定储器压力达到压力阈值之前的剩余时间段；告知使用者和/或装置的控制系统剩余时间段。 | ||
| 搜索关键词： | 储器 函数关系 剩余时间段 压力储器 压力系统 阈值时刻 粒子束装置 测量压力 控制系统 时间函数 真空腔室 阈值时 成像 断开 告知 分析 | ||
【主权项】：
1.一种用于操作对物体(114，225，304)进行成像、分析和/或处理的装置(100，200，300)的压力系统(601，801)的方法，该方法包括：a)将泵(610，610A，811)与压力储器(607，607A，614，802，803)断开；b)测量该压力储器(607，607A，614，802，803)中存在的储器压力(V)、并且确定第一时刻(T1)时该储器压力(V)的至少一个第一压力值(V1)以及第二时刻(T2)时该储器压力(V)的至少一个第二压力值(V2)，其中，该第二时刻(T2)晚于该第一时刻(T1)；c)确定该储器压力(V)的第一压力值(V1)与该储器压力(V)的第二压力值(V2)之间的函数关系，其中，该函数关系是时间函数；d)针对晚于该第二时刻(T2)的时刻来外推该函数关系；e)使用外推的函数关系来确定阈值时刻(TT1)，其中，该阈值时刻(TT1)是该外推的函数关系达到针对该储器压力(V)给出的压力阈值时的时刻；f)确定该储器压力(V)达到该压力阈值之前的剩余时间段(RT1)，其中，该剩余时间段(RT1)是阈值时刻(TT1)与该第二时刻(T2)之间的时间差；并且g)将关于该剩余时间段(RT1)的信息提供给使用者和/或该装置(100，200，300)的控制系统(701)。
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- 2012-06-14 - 2017-05-10 - H01J37/02
- 一种离子注入方法，其中在射束扫描方向扫描离子束并且在与射束扫描方向垂直的方向机械地扫描晶圆，该方法包括将相对于所述离子束的晶圆旋转角度设定使得为是变化的，其中，以阶梯的方式改变所述晶圆旋转角度的设定角度，从而以每个设定角度将离子注入所述晶圆，以及其中，在晶圆旋转一次期间的多次离子注入操作中的以各个设定角度的离子注入中，将晶圆扫描区域长度设定为是变化的，并且同时，改变离子束的射束扫描速度，从而将所述离子注入所述晶圆并且对其他半导体制造工艺中的晶圆表面内剂量不均匀性进行校正。
- 一种真空腔体盖板的开合机构-201510685620.8
- 门恩国;杜广宇 - 沈阳拓荆科技有限公司
- 2015-10-21 - 2017-05-03 - H01J37/02
- 本发明涉及一种真空腔体盖板的开合机构，该机构包括撑杆、铰链座、杠杆约束杆a、杠杆约束杆b、杠杆销轴、杠杆、盖板连接件、气体弹簧、盖板和把手。所述杠杆一端通过杠杆销轴连接在铰链座的长条孔位置，杠杆销轴可沿长条孔中心线方向移动；杠杆约束处通过杠杆约束杆a、杠杆约束杆b及销轴与铰链座连接；气体弹簧两端分别通过销轴与铰链座和杠杆连接；盖板通过盖板连接件与杠杆连接。所述机构可实现盖板在一定角度的开启和关闭，在盖板关闭有真空吸附盖板时，所述机构可补偿盖板由真空力作用发生的位移，在盖板打开过程中，气体弹簧可提供部分开启盖板所需的开启力，可减轻劳动强度。
- 一种上盖板开启结构-201510689589.5
- 马壮;李思 - 沈阳拓荆科技有限公司
- 2015-10-22 - 2017-05-03 - H01J37/02
- 一种上盖板开启结构，包括上铰链和下铰链，两者通过定位连接销连接。上铰链与上盖板固定连接，下铰链与腔体的外壁固定连接。上铰链上设有上定位孔，其下端的平面为上盖板接触面；下铰链的上端设有下定位孔，其侧面的平面为腔体接触面，在腔体接触面上设有固定销轴。本发明准确定位上盖板和腔体外壁，以避免上盖板与密封圈、衬垫和腔体之间的摩擦，避免设备的损伤，改善腔体密封性能。
- 一种线圈支撑装置及等离子体加工设备-201310302887.5
- 郭浩;陈春伟;丁培军 - 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司
- 2013-07-18 - 2017-03-22 - H01J37/02
- 本发明涉及一种线圈支撑装置及等离子体加工设备，其用于支撑位于反应腔室的顶部上方的线圈，其包括屏蔽罩、线圈支架和升降驱动机构，其中，屏蔽罩固定在反应腔室的顶部，线圈及用于固定线圈的线圈支架位于屏蔽罩的内部；升降驱动机构固定在屏蔽罩的顶部上方，用以驱动线圈支架及与之固定连接的线圈相对于反应腔室作升降运动。本发明提供的线圈支撑装置，能够驱动线圈作升降运动而调节线圈相对于反应腔室的高度，从而不仅可以消除线圈可能存在的安装误差和加工误差，而且还可以灵活而准确地调节射频磁场在反应腔室内的分布，进而可以提高工艺的均匀性。
- 用于斜面聚合物减少的边缘环-201620320137.X
- R·米什拉;G·J·斯科特;K·M·西拉朱迪茵;S·L·图西巴格威尔;S·西卢纳乌卡拉苏 - 应用材料公司
- 2016-04-15 - 2017-02-22 - H01J37/02
- 本公开的实施例包括被用于减少来自基板周边区域(诸如基板的边缘或斜面)的残余膜层的方法与设备。可在等离子体工艺之后减少基板斜面、背侧与基板周边区域的污染。在一个实施例中，一种边缘环包括基座圆形环，该基座圆形环具有限定形成在其上的中央开口的内表面以及限定该基座圆形环的周边的外表面。该基座圆形环包括上主体与连接到该上主体的下部。阶梯形成在该基座圆形环的内表面处并且位于该上主体的第一上表面之上。该阶梯限定位于该上主体的第一上表面之上的袋。多个凸起特征形成在该基座圆形环的第一上表面上。
- 专利分类
