[发明专利]电子装置的制造方法在审

专利信息
申请号: 201880047544.X 申请日: 2018-07-09
公开(公告)号: CN110915318A 公开(公告)日: 2020-03-24
发明(设计)人: 畦崎崇;镰田润;森本哲光;木下仁 申请(专利权)人: 三井化学东赛璐株式会社
主分类号: H05K9/00 分类号: H05K9/00;H01L21/301;H01L21/304
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 钟晶;金鲜英
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明的电子装置的制造方法依次包括下述工序:工序(A),准备结构体(60),所述结构体(60)具备具有电路形成面(10A)的电子部件(10)、以及粘着性层叠膜(50),该粘着性层叠膜(50)具有基材层(20)和粘着性树脂层(40),且粘着性树脂层(40)侧粘贴于电子部件(10)的电路形成面(10A)以保护电路形成面(10A);工序(B),在粘贴于粘着性层叠膜(50)的状态下,对电子部件(10)的与电路形成面(10A)相反侧的面进行背面研磨;工序(C),在粘贴于粘着性层叠膜(50)的状态下,对电子部件(10)进行切割;工序(D),在粘贴于粘着性层叠膜(50)的状态下,对于被单片化了的电子部件(10)形成电磁波屏蔽层(70),在工序(A)、工序(B)、工序(C)和工序(D)中,作为粘着性层叠膜(50),使用同一个粘着性层叠膜。
搜索关键词: 电子 装置 制造 方法
【主权项】:
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