[发明专利]膜有效
| 申请号： | 201880026540.3 | 申请日： | 2018-04-06 |
| 公开（公告）号： | CN110573334B | 公开（公告）日： | 2022-03-29 |
| 发明（设计）人： | 真锅功;荘司秀夫;田中照也 | 申请（专利权）人： | 东丽株式会社 |
| 主分类号： | B32B7/023 | 分类号： | B32B7/023;B32B27/00;B32B27/36 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 王磊;段承恩 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种膜，是至少一面的表面粗糙度SRa为100nm以上且3000nm以下，并且20cm×14cm范围内的上述表面粗糙度SRa的偏差为10％以下，320nm的平行光线透射率ST320为30％以上的膜，通过该膜，在作为转印膜使用的情况下，能够均匀地转印低光泽调外观，并且即使在使用了光固化性树脂作为被转印材的情况下，也能够进行低光泽外观的转印、形状固定，具有粒子脱落、削减这样的不良状况不易发生的良好的加工工序适应性。 | ||
| 搜索关键词： | 膜 | ||
【主权项】：
1.一种膜，其至少一面的表面粗糙度SRa为100nm以上且3000nm以下，并且20cm×14cm范围内的所述表面粗糙度SRa的偏差为10％以下，320nm的平行光线透射率ST320为30％以上。/n
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