[发明专利]一种低磨损高清洁磨擦型二氧化硅及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201811352152.2 申请日: 2018-11-13
公开(公告)号: CN109264728B 公开(公告)日: 2019-06-25
发明(设计)人: 侯灿明;高文颖;胡非;张梦梅;林超聪 申请(专利权)人: 广州市飞雪材料科技有限公司
主分类号: C01B33/193 分类号: C01B33/193;A61K8/25;A61Q11/00
代理公司: 广州胜沃园专利代理有限公司 44416 代理人: 徐翔
地址: 510663 广东省广州市黄埔区茅岗*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明属于二氧化硅技术领域,具体涉及一种低磨损高清洁磨擦型二氧化硅及其制备方法。本发明制备方法包括S1往反应釜中加入硫酸钠溶液和硅酸钠溶液,加热至80~90℃,滴加硫酸溶液至体系pH值为8.5~9.5;S2继续加入十二烷基硫酸钠水溶液和海藻酸钠;S3同时加入硅酸钠溶液和硫酸溶液,控制体系pH值为8.5~9.5,硅酸钠溶液添加完毕后,继续添加硫酸溶液至体系pH值为4.0~4.5;S4加入水并搅拌,形成的二氧化硅经过压滤、洗涤、干燥、粉碎,即可,该二氧化硅的RDA值为120~140,PCR值为120~140,PCR/RDA=0.9~1,具有优异的低磨损高清洁特性,满足在牙膏中的良好应用。
搜索关键词: 二氧化硅 硅酸钠溶液 硫酸溶液 低磨损 制备 磨擦型 十二烷基硫酸钠水溶液 硫酸钠溶液 海藻酸钠 清洁特性 清洁 反应釜 滴加 压滤 牙膏 加热 洗涤 应用
【主权项】:
1.一种低磨损高清洁磨擦型二氧化硅的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:S1、往反应釜中加入硫酸钠溶液11~13m3和硅酸钠溶液1~3m3,加热至80~90℃,然后滴加硫酸溶液至体系pH值为8.5~9.5;S2、搅拌下,继续加入十二烷基硫酸钠水溶液和海藻酸钠,搅拌1~2h;S3、同时加入硅酸钠溶液11~14m3和硫酸溶液,控制体系pH值为8.5~9.5,硅酸钠溶液添加完毕后,继续添加硫酸溶液至体系pH值为4.0~4.5;S4、加入水2~4m3,搅拌0.5~1h后,将形成的二氧化硅经过压滤、洗涤、干燥、粉碎,制得低磨损高清洁磨擦型二氧化硅;所述硫酸钠溶液的重量百分比浓度为7.0~10.0%;所述硅酸钠溶液的浓度为2~3mol/L;所述硫酸溶液的浓度为3~4mol/L;所述十二烷基硫酸钠水溶液的浓度为0.1~0.4mol/L,其加入量为0.5~1.5m3;所述海藻酸钠的加入量为0.1~0.5kg。
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