[发明专利]具有两阶段运动限制结构的MEMS装置在审

专利信息
申请号: 201811239549.0 申请日: 2018-10-24
公开(公告)号: CN109696164A 公开(公告)日: 2019-04-30
发明(设计)人: A·A·盖斯伯格 申请(专利权)人: 恩智浦美国有限公司
主分类号: G01C19/5656 分类号: G01C19/5656;G01C19/5663
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 秦晨
地址: 美国得*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明涉及具有两阶段运动限制结构的MEMS装置。一种MEMS装置包括基板、能够相对于所述基板移动的检验质量块以及运动限制结构。所述运动限制结构包括柔性地耦联到所述检验质量块或所述基板的臂结构。所述臂结构具有第一接触区域和第二接触区域。响应于致使所述检验质量块移动的震动力,所述第一接触区域接触所述检验质量块和所述基板中的另一个上的第一止动区域。在所述第一接触区域与所述第一止动区域接触之后和在连续施加所述震动力后,所述第二接触区域接触所述检验质量块和所述基板中的所述另一个上的第二止动区域,使得所述第二接触区域与所述第二止动区域之间的所述接触减小了所述第一接触区域与所述第一止动区域之间的接触力。
搜索关键词: 接触区域 检验质量块 止动 运动限制 基板 臂结构 两阶段 震动力 基板移动 区域接触 接触力 减小 耦联 施加 响应 移动
【主权项】:
1.一种微机电系统(MEMS)装置,其特征在于,包括:基板;检验质量块,其与所述基板间隔开且能够相对于所述基板移动;和运动限制结构,其包括柔性地耦联到所述检验质量块和所述基板中的第一者的臂结构,所述臂结构具有第一接触区域和第二接触区域,其中:响应于对所述检验质量块强加的致使所述检验质量块移动的震动力,所述第一接触区域被配置成接触所述检验质量块和所述基板中的第二者上的第一止动区域;和在所述第一接触区域与所述第一止动区域接触之后和在连续对所述检验质量块强加所述震动力后,所述第二接触区域被配置成接触所述检验质量块和所述基板中的所述第二者上的第二止动区域,使得所述第二接触区域与所述第二止动区域的接触减小了所述第一接触区域与所述第一止动区域之间的接触力。
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