[发明专利]一种电磁屏蔽膜及其制作方法在审
| 申请号： | 201810780066.5 | 申请日： | 2018-07-16 |
| 公开（公告）号： | CN108848660A | 公开（公告）日： | 2018-11-20 |
| 发明（设计）人： | 周小红;基亮亮;陈林森 | 申请（专利权）人： | 苏州维业达触控科技有限公司 |
| 主分类号： | H05K9/00 | 分类号： | H05K9/00 |
| 代理公司： | 上海波拓知识产权代理有限公司 31264 | 代理人： | 杨波 |
| 地址： | 215026 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 一种电磁屏蔽膜，包括基底以及呈网格结构的第一导电层和第二导电层，第一导电层设置在基底上，第二导电层设置在第一导电层上，第二导电层的表面电阻小于第一导电层的表面电阻，第一导电层的厚度为1μm～7μm；第二导电层的厚度大于0μm，且小于或等于2μm，第一导电层的网格线宽为1μm～4μm，第二导电层的网格线宽小于或等于第一导电层的网格线宽。本发明的电磁屏蔽膜能大大提高导电性和屏蔽效果。本发明还涉及一种电磁屏蔽膜的制作方法。 | ||
| 搜索关键词： | 第一导电层 第二导电层 电磁屏蔽膜 网格线 表面电阻 基底 导电性 屏蔽效果 网格结构 制作 | ||
【主权项】：
1.一种电磁屏蔽膜，其特征在于，包括基底(11)以及呈网格结构的第一导电层(14)和第二导电层(15)，所述第一导电层(14)设置在所述基底(11)上，所述第二导电层(15)设置在所述第一导电层(14)上，所述第二导电层(15)的表面电阻小于所述第一导电层(14)的表面电阻，所述第一导电层(14)的厚度为1μm～7μm；所述第二导电层(15)的厚度大于0μm，且小于或等于2μm，所述第一导电层(14)的网格线宽为1μm～4μm，所述第二导电层(15)的网格线宽小于或等于所述第一导电层(14)的网格线宽。
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