[发明专利]一种氮化渗铬层、其制备方法及应用有效

专利信息
申请号: 201810758484.4 申请日: 2018-07-11
公开(公告)号: CN110714182B 公开(公告)日: 2021-11-02
发明(设计)人: 张学东;姜欣;蒲吉斌;王立平 申请(专利权)人: 中国科学院宁波材料技术与工程研究所
主分类号: C23C12/00 分类号: C23C12/00
代理公司: 南京利丰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32256 代理人: 王茹;王锋
地址: 315201 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种氮化渗铬层、其制备方法及应用。所述的制备方法包括:采用辉光离子氮化技术,以高纯NH3为氮源,至少在基材表层形成氮化层;以及,采用真空渗铬技术,在保护性气氛下,利用渗铬剂至少在经渗氮处理后的基材表层扩散渗铬,获得氮化渗铬层。本发明不仅改善了传统氮化技术温度高、传统渗铬技术中渗速慢、Cr2N相形成困难、存在氧化等问题,实现了高性能氮化渗铬表面处理;并且,本发明所获氮化渗铬层具有高硬度、高耐磨且在液钠环境中具有良好的服役性能等特点,对在工况复杂条件下作业的零部件具有良好的防护作用,可以起到防紧固件咬死,自焊的作用,进而有效提高零部件的综合性能及服役寿命。
搜索关键词: 一种 氮化 渗铬层 制备 方法 应用
【主权项】:
1.一种氮化渗铬层的制备方法,其特征在于包括:/n采用辉光离子氮化技术,以NH
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1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

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