[发明专利]抗脱层半导体装置以及相关联的方法有效

专利信息
申请号: 201810695778.7 申请日: 2018-06-29
公开(公告)号: CN109216387B 公开(公告)日: 2022-05-06
发明(设计)人: 郭盈志;钟莹 申请(专利权)人: 豪威科技股份有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146
代理公司: 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 代理人: 宋融冰
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种抗脱层半导体装置包含导电层、半导体层和间隔件。所述导电层具有与第二侧相对的第一侧。所述半导体层处于所述第一侧上并且限定由所述导电层跨越的穿过所述半导体层的孔眼。所述间隔件处于所述第二侧上并且具有接近所述导电层的顶表面,所述顶表面限定由所述导电层跨越的盲孔。一种用于防止多层结构脱层的方法包含将第一层安置在衬底上使得所述第一层跨越所述衬底的孔眼的步骤。所述方法还包含将第二层安置在所述第一层上的步骤。所述第二层具有邻近所述第一层的盲孔,从而使得所述第一层跨越所述盲孔。
搜索关键词: 抗脱层 半导体 装置 以及 相关 方法
【主权项】:
1.一种抗脱层半导体装置,包括:导电层,具有与第二侧相对的第一侧;半导体层,处于所述第一侧上并且限定由所述导电层跨越的穿过所述半导体层的孔眼;和间隔件,处于所述第二侧上并且具有接近所述导电层的顶表面,所述顶表面限定由所述导电层跨越的盲孔。
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