[发明专利]氮化物半导体结构及半导体发光元件有效

专利信息
申请号: 201810450395.3 申请日: 2013-01-25
公开(公告)号: CN108550670B 公开(公告)日: 2020-10-27
发明(设计)人: 吴俊德;李玉柱 申请(专利权)人: 新世纪光电股份有限公司
主分类号: H01L33/06 分类号: H01L33/06;H01L33/14;H01L33/32
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 骆希聪
地址: 中国台湾台南市*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 发明有关于一种氮化物半导体结构及半导体发光元件。该氮化物半导体结构包含一N型半导体层以及一P型半导体层,于N型半导体层与P型半导体层间配置有一发光层,发光层与P型半导体层间配置有一空穴提供层,空穴提供层为氮化铟镓InxGa1‑xN(0x1),且空穴提供层掺杂有浓度为1017‑1020cm‑3的第四主族元素。该半导体发光元件于一基板上包含上述的氮化物半导体结构,以及二相配合地提供电能的N型电极与P型电极。通过掺杂第四主族元素可提高空穴浓度,并降低因Mg‑H键结所造成的不活化现象,使Mg活化而具有受体的有效作用,进而增加发光效率。
搜索关键词: 氮化物 半导体 结构 发光 元件
【主权项】:
1.一种氮化物半导体结构,其特征在于,包括:一N型复合半导体层;一发光层,位于所述N型半导体层上,并具有多重量子井结构,其中所述多重量子井结构由多个井层与多个阻障层交替堆叠而成;以及一P型复合半导体层,位于所述发光层上,其中所述P型复合半导体层之邻近于所述发光层的第一区的碳浓度高于所述P型复合半导体层之远离于所述发光层的第二区,且所述第一区的能隙大于所述多重量子井结构之所述井层的能隙。
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