[发明专利]氮化物半导体结构及半导体发光元件有效

专利信息
申请号: 201810345069.6 申请日: 2013-01-25
公开(公告)号: CN108550669B 公开(公告)日: 2020-10-09
发明(设计)人: 黄吉丰;林京亮;王信介;吴俊德;李玉柱;李俊杰 申请(专利权)人: 新世纪光电股份有限公司
主分类号: H01L33/06 分类号: H01L33/06;H01L33/12;H01L33/32
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 吴志红;臧建明
地址: 中国台湾台*** 国省代码: 台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明有关于一种氮化物半导体结构及半导体发光元件。该氮化物半导体结构主要于发光层与p型载子阻隔层间配置有一应力控制层,p型载子阻隔层由AlxGa1‑xN表示的材料所构成(0x1),而应力控制层由AlxInyGa1‑x‑yN表示的材料所构成(0x1、0y1、0x+y1),且发光层具有多个彼此交替堆叠的阱层及阻障层的多重量子阱结构,且每两层阻障层间具有一阱层。该半导体发光元件至少包含如上述的氮化物半导体结构,以及二相配合地提供电能的n型电极与p型电极。由此,应力控制层不仅可改善p型载子阻隔层与发光层因晶格失配所造成晶体质量劣化的问题;同时,更可减低阱层因材料差异所受的压缩应力。
搜索关键词: 氮化物 半导体 结构 发光 元件
【主权项】:
1.一种氮化物半导体结构,包括:一第一型半导体层;一发光层;一AlInGaN基础的应力控制层;一AlGaN基础的载子阻隔层;以及一第二型半导体层,其中该AlInGaN基础的应力控制层配置于该发光层与该AlGaN基础的载子阻隔层之间,该AlGaN基础的载子阻隔层配置于该第二型半导体层与该AlInGaN基础的应力控制层之间。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于新世纪光电股份有限公司,未经新世纪光电股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201810345069.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top