[发明专利]一种多层坩埚及其制造方法在审
申请号: | 201810296041.8 | 申请日: | 2018-04-04 |
公开(公告)号: | CN108411280A | 公开(公告)日: | 2018-08-17 |
发明(设计)人: | 何军舫;王军勇 | 申请(专利权)人: | 博宇(天津)半导体材料有限公司 |
主分类号: | C23C16/34 | 分类号: | C23C16/34 |
代理公司: | 北京恒博知识产权代理有限公司 11528 | 代理人: | 范胜祥 |
地址: | 300000 天津市宝坻区*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | 本发明提供了一种多层坩埚及其制造方法,所述多层坩埚由至少两个坩埚层构成,其中相邻两个坩埚层中位于外侧的坩埚层附着在位于内侧的坩埚层的外壁上。本发明提供的多层坩埚及其制造方法具有结构简单、利用率高和成本较低的优点。 | ||
搜索关键词: | 坩埚层 多层 坩埚 制造 附着 外壁 | ||
【主权项】:
1.一种多层坩埚,其特征在于,所述多层坩埚由至少两个坩埚层构成,其中相邻两个坩埚层中位于外侧的坩埚层附着在位于内侧的坩埚层的外壁上。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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