[发明专利]一种氮化物发光二极管在审

专利信息
申请号: 201810193977.8 申请日: 2018-03-09
公开(公告)号: CN108305920A 公开(公告)日: 2018-07-20
发明(设计)人: 刘军林;莫春兰;张建立;王小兰;郑畅达;全知觉;江风益 申请(专利权)人: 南昌大学;南昌黄绿照明有限公司
主分类号: H01L33/06 分类号: H01L33/06;H01L33/32;H01L33/14
代理公司: 北京众合诚成知识产权代理有限公司 11246 代理人: 赵艾亮
地址: 330027 江西省*** 国省代码: 江西;36
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摘要: 发明提供了一种氮化物发光二极管,包括衬底,在衬底上设有缓冲层,在缓冲层上依次设有N型层、准备层、第一多量子阱层、第二多量子阱层、第三量子阱层、P型电子阻挡层和P型层,在所述第一多量子阱层、第二多量子阱层、第三量子阱层、P型电子阻挡层处还设有倒六角锥结构,所述第一多量子阱层是由InxGa(1‑x)N量子阱、GaN势垒、AlyGa(1‑y)N势垒和GaN势垒依次组成的周期结构。本发明可有效调控空穴在多量子阱中分布、使空穴和电子更为有效地分布到部分量子阱中、从而改善空穴和电子的匹配度、提升发光效率。
搜索关键词: 多量子阱层 空穴 势垒 氮化物发光二极管 量子阱层 缓冲层 量子阱 衬底 多量子阱 发光效率 角锥结构 有效调控 周期结构 匹配度 有效地
【主权项】:
1.一种氮化物发光二极管,包括衬底,在衬底上设有缓冲层,在缓冲层上依次设有N型层、准备层、第一多量子阱层、第二多量子阱层、第三量子阱层、P型电子阻挡层和P型层,在所述第一多量子阱层、第二多量子阱层、第三量子阱层、P型电子阻挡层处还设有倒六角锥结构,其特征在于:所述第一多量子阱层是由InxGa(1‑x)N量子阱和GaN/AlyGa(1‑y)N/GaN三层势垒组成的周期结构,其周期数为m,其中0≤x≤1,0.01≤y≤0.5,1≤m≤5;所述第二多量子阱层是由InxGa(1‑x)N量子阱和GaN势垒组成的周期结构,其周期数为k,其中0≤x≤1,3≤k≤6;所述第三量子阱层由InxGa(1‑x)N量子阱和GaN/AlyGa(1‑y)N两层势垒组成,其中0≤x≤1,0.3≤y≤0.8。
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  • 2019-01-28 - 2019-08-16 - H01L33/06
  • 本实用新型公开了一种发光高效率反转垂直结构高压芯片,包括外延层,外延层分别是由N型层、发光层MQW和P型层组成,且N型层的顶部固定连接有发光层MQW,所述发光层MQW的顶部固定连接有P型层,外延层的P型层上覆有mirror反射层,mirror反射层上覆有Barrier金属保护层,本实用新型涉及LED芯片制造技术领域。该发光高效率反转垂直结构高压芯片,可很好的达到简单易实施的目的,在芯片端完成芯片集成,减少下游封装厂的固晶频次,提高其生产效率,随着频次的减少一并提升生产的良率,采用通孔式设计,提升电流扩展效率,增加散热,降低光损失,采用反转设计,将N电极做整面导电材料,大电流的情况下,有助电流传导及散热。
  • 氮化物半导体发光元件-201910436698.4
  • 吴永胜;张帆;林新 - 福建兆元光电有限公司
  • 2019-05-23 - 2019-08-13 - H01L33/06
  • 本发明涉及一种氮化物半导体发光元件,包括:n‑型氮化物半导体层;p‑型氮化物半导体层;以及活性层,其设置于所述n‑型氮化物半导体层与所述p‑型氮化物半导体层之间,具有由多个势垒层和多个阱层交替层叠的多重量子阱结构;所述多重量子阱结构在中间部位的阱层中具有至少一个中间阱层,所述中间阱层的带隙大于邻接的其他阱层。该元件有利于使空穴注入下级阱层,提高电子和空穴的复合率,进而提高发光效率。
  • 氧化锌量子光源及其制备方法-201810100060.9
  • 侯尧楠;梅增霞;梁会力;杜小龙 - 中国科学院物理研究所
  • 2018-02-01 - 2019-08-09 - H01L33/06
  • 本发明提供一种氧化锌量子光源,包括:衬底层、所述衬底层之上的掺杂ZnO层和分散在所述掺杂ZnO层之上的Ag、Au或Al金属纳米球,其中,所述掺杂ZnO层中的掺杂元素为III族元素或V族元素中的一种或多种,以及所述Ag、Au或Al金属纳米球的直径为20~50nm。本发明的氧化锌量子光源利用掺杂引起的复合缺陷来和金属纳米结构的表面等离激元进行耦合,大大提高光源的增益和稳定性。
  • 一种发光二极管的外延片及其制造方法-201710134805.9
  • 姚振;从颖;胡加辉 - 华灿光电(浙江)有限公司
  • 2017-03-07 - 2019-08-02 - H01L33/06
  • 本发明公开了一种发光二极管的外延片及其制造方法,属于半导体技术领域。所述外延片包括衬底,低温氮化镓层、高温氮化镓层、N型氮化镓层、有源层、电子阻挡层和P型氮化镓层;有源层包括依次层叠的多个量子层,多个量子层中的每个量子层包括依次层叠的阱层、盖层和垒层,阱层为铟镓氮层,垒层为氮化镓层,多个量子层中与电子阻挡层的距离最近的至少一个量子层中的盖层为第一盖层,第一盖层包括多层铝镓氮层和多层氮化镓层,多层铝镓氮层和多层氮化镓层交替层叠设置,多层氮化镓层中与垒层的距离最近的至少一个氮化镓层为第一氮化镓层,第一氮化镓层中掺有低于设定浓度的硅。本发明提高了LED的晶体质量。
  • 一种发光二极管外延片及其制造方法-201711429144.9
  • 苏晨;王慧;肖扬;吕蒙普;胡加辉;李鹏 - 华灿光电(浙江)有限公司
  • 2017-12-26 - 2019-08-02 - H01L33/06
  • 本发明公开了一种发光二极管外延片及其制造方法,属于半导体技术领域。发光二极管外延片的多量子阱层包括多个周期交替生长的量子阱层和量子垒层,多量子阱层中最靠近插入层的1~5个量子垒层为第一量子垒层,第一量子垒层中均掺杂有Mg,且Mg的掺杂浓度为1017~1019/cm3,Mg可以提高空穴的迁移能力,同时还可以拉高多量子阱层中靠近P型层处的导带能级,阻挡电子向P型层迁移,改善电子和空穴的有效分布,提高电子和空穴的复合效率,从而提高LED的发光效率。每个第一量子垒层的厚度为3~20nm,电子阻挡层的厚度为0~30nm。由于空穴的浓度增加,可以减少对电子的阻挡,从而可以减小电子阻挡层的厚度,减小引入电子阻挡层造成的阻碍空穴注入的影响。
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